超高速納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品,，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì),，如非遷移性、熒光性,、壓電性,、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光,、電,、磁、敏感等方面的奇妙性能,，可制造氣體傳感器,、熒光體、變阻器,、圖像記錄材料,、壓電材料、壓敏電阻,、高效催化劑,、磁性材料和塑料薄膜等。
                   

納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,，容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,，導致物料粒徑變大,，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分,。

如果使用普通的分散設備,，很難將納米氧化鋅分散均勻，會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象,，團聚體難以打開,，而如果采用SGN研發(fā)的分散設備，研磨分散機的話,，先研磨后分散機,，解決團聚問題，可達納米氧化鋅還原至納米級,。

SGN研磨式分散機,，是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設備，主要是為了解決納米級物料的分散,，如：納米碳酸鈣,、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁,、石墨烯,、碳納米管等納米級物料的分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

GMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小,，當物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

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