GMD2000珍珠粉研磨分散機 ,，上海思峻機械設備有限公司 珍珠粉研磨設備具有高轉速高剪切低能耗能等優(yōu)勢，設備采用兩級結構,，*級采用的是膠體磨常用的磨頭,，第二級使用的是超細分散盤，二者結合后研磨效果更佳,，分散均質效果會更好,！

原料：珍珠，水

用途：化妝品行業(yè),、醫(yī)藥行業(yè),、食品行業(yè)、行業(yè)

粉體粒徑：目前市場上正常銷售的是10μm（1250目左右）,，經SKN管線式高剪切研磨分散機處理后的珍珠粉可以達到2-3μm（2000目左右）,，目前市場上僅有九江華漢科技有限公司銷售2-3μm細的珍珠粉。

工藝：1,、預粉碎：先將完整珍珠洗凈初步破碎成顆粒狀,；

2、研磨：使用SGN研磨分散機研磨,，將已經初步粉碎的顆粒狀珍珠按一定配比與水混合進入SGN管線式高剪切研磨分散機,，珍珠粉在SGN研磨分散機中經過數(shù)次循環(huán)后得出珍珠粉溶液，使用顯微鏡對物料粒徑進行初步檢測,，珍珠粉粒徑達到2-3μm（2000目左右）即為合格,；

3、噴霧干燥：使用噴霧干燥塔對已經處理到2-3微米的珍珠粉溶液進行噴霧干燥,，得出珍珠粉,；

4、包裝,，貼標簽；

GMD2000珍珠粉研磨分散機介紹：

針對珍珠粉處理的特殊性,，使用SGN其它設備難以滿足珍珠粉生產廠家的高標準要求,，SKN研發(fā)工程師特對已開發(fā)的研磨分散機進行技術完善，將研磨分散機標準轉速提高了一半,，超高的轉速直接提高了設備的線速度,，大大縮減了物料在研磨分散機里循環(huán)的次數(shù)，極大的提高了珍珠粉的生產效率,。

是上海思峻機械設備有限公司 經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,，我們將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質,。磨頭下面的膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P,，2G，4M,，6F,，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

研磨分散機工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉,，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力,，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力,、摩擦力,、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化,、分散和粉碎,，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機,，但它對物料的適應能力較強（如高粘度,、大顆粒），所以在很多場合下,，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合,。

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離,。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向,。

第二級由轉定子組成,。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度,、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣,。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能,。根據以往的慣例,，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用,。

GMD2000系列的線速度很高,，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨,。定轉子被制成圓椎形,，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。高質量的表面拋光和結構材料,，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

設備等級：化工級、衛(wèi)生S級,、衛(wèi)生SS級,、無菌級電機形式：普通馬達,、變頻調速馬達、防爆馬達,、變頻防爆馬達,、電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ電機選配件： PTG 熱保護,、降噪型研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷研磨分散機選配：儲液罐,、排污閥,、變頻器,、電控箱,、移動小車研磨分散機表面處理：拋光,、耐磨處理進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口,、夾箍研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器