SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)BS4-50C08-10W-550光束取樣板
監(jiān)控激光的強(qiáng)度,,觀察光學(xué)系統(tǒng)的部分光線時(shí),,把光束取樣板插入光路中,可以取出5%的入射光量到光路之外,。
?反面鍍有防反射膜,,可以避免反面的雜散光。
?有不使光束產(chǎn)生變形的平行平板型,,和因反面反射產(chǎn)生鬼影或干涉的影響很少的楔型平板兩種類型,。
?無鍍膜面的反射率隨波長變化很小,,可以從基板的折射率正確地算出。
信息 | ?承接制造產(chǎn)品目錄之外的尺寸或波長的光學(xué)零件,。請(qǐng)使用客戶問詢單,。 WEB參照/カタログコードW3802 ?要求保證反射波面型精度或透過波面精度時(shí),請(qǐng)聯(lián)系我們,。 ?楔型半反射鏡最厚的地方,,印有指向入射表面的箭頭符號(hào)。 ?「波長特性數(shù)據(jù)」(僅供參考,,EXCEL檔案格式)請(qǐng)參考【這里】,。 |
注意 | ?由于基板的折射率和厚度的作用,透過光的光路相對(duì)于入射光會(huì)平行移動(dòng)數(shù)mm,。(楔型半反射鏡在平行移動(dòng)的同時(shí)光束大約偏角30分) ?用于45°之外的入射角后,,透過率波長特性可能會(huì)變化。(參照相對(duì)入射角度的反射率變化圖) ? 基板側(cè)面的箭頭符號(hào)指向沒有鍍膜的那一面(反射面),。 ?使用激光那樣的直線偏光的光源時(shí),,反射率隨偏光方向在0.9?9.6%范圍內(nèi)變化。(參照反射率波長特性圖) ?反射面沾有污漬時(shí),,反射率可能會(huì)變化很大,。 ?雖然可以用于紅外或紫外,但反面的防反射膜的作用可能得不到充分發(fā)揮,。 ?入射光的相位差在透過光,,反射光中不能保持不變。 |
分束比(反射:透過) | 5:95(P偏光和S偏光的平均值) |
厚度 t | 8mm |
楔形角 W | 1°±5′ |
鍍膜 | 正面 無鍍膜 反面 可見譜區(qū)防反射膜 |
表面質(zhì)量 | 10−5 |
適用波長 | 400~700nm |
外徑 φD | φ50mm |
基板面型精度 | λ/10 |
入射角度 | 45° |
有效直徑 | 外徑的90% |
激光損傷閾值(參考值) | 4J/cm2(脈沖寬4ns,,重復(fù)頻率20Hz) |