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型號HC-XAFS-T

高溫高壓原位池是一款為研究電極材料在熱催化實驗中的結(jié)構(gòu)變化而設(shè)計。工作電極（WE）放置在透視窗口處，從而使X射線能夠穿透工作電極,；

●此裝置主體為高強(qiáng)度鋼結(jié)構(gòu)，可以耐800oC高溫和1~3MPa的高壓（配置小窗口可以實現(xiàn)更高壓力）；

●實現(xiàn)1℃精確控溫,；

●此原位池可用于透射模式原位XAFS測試,；

●靈活控制階梯式升溫，并可通入各種反應(yīng)氣氛,，實時監(jiān)測升溫條件下物相變化,；

●光窗直徑：13mm; 光學(xué)窗口選用Be窗,；樣品片為粉末狀圓片,；

●配循環(huán)冷卻裝置，循環(huán)水溫控制在25oC,。