| 產地類別 |
進口 |
應用領域 |
環(huán)保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130
單組分濃度計特點
Model-130是強調測量濃度穩(wěn)定性的概念模型，,。在半導體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效
日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130
1.單組分濃度計特點
Model-130是強調測量濃度穩(wěn)定性的概念模型,，。在半導體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效,。
2.優(yōu)點
-可進行高精度連續(xù)測量
-免維護,，無需定期調整或校準
-安裝方便，安裝過程中無需進行各種調整
-實時輸出可以輕松向流程提供反饋
3.目的
-CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度管理等
-稀釋過程中各種化學品濃度控制（H2O2,、TMAH,、HNO3、H2SO4,、HCl等）
-清洗過程中清洗液濃度管理（HF,、NH4OH、KOH,、IPA等）
-蝕刻過程中蝕刻液濃度控制（HF,、H2SO4等）
日本fuji 單組分濃度計FUD-1Model-130
1.單組分濃度計特點
Model-130是強調測量濃度穩(wěn)定性的概念模型，,。在半導體制造工藝等需要高精度和高穩(wěn)定性濃度計的情況下非常有效,。
2.優(yōu)點
-可進行高精度連續(xù)測量
-免維護，無需定期調整或校準
-安裝方便,，安裝過程中無需進行各種調整
-實時輸出可以輕松向流程提供反饋
3.目的
-CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度管理等
-稀釋過程中各種化學品濃度控制（H2O2,、TMAH、HNO3,、H2SO4,、HCl等）
-清洗過程中清洗液濃度管理（HF、NH4OH,、KOH,、IPA等）
-蝕刻過程中蝕刻液濃度控制（HF、H2SO4等）
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