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深度剖析samco紫外線臭氧清洗機裝置

時間:2024/9/4閱讀:362
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深度剖析samco紫外線臭氧清洗機裝置

一,、概述

該裝置是一種UV臭氧清洗機,,可以對各種半導(dǎo)體工藝進(jìn)行干燥處理,??梢赃M(jìn)行有機物去除和表面改性,,例如光刻膠灰化以及硅和藍(lán)寶石晶圓清洗,。配備紫外線燈、臭氧發(fā)生器和加熱臺,紫外線照射,、臭氧和熱量之間的相互作用可以實現(xiàn)高效的清潔和表面改性,,而不會對基材造成電氣損壞。

二,、特征

1.由于同時使用紫外線 (UV),、高濃度臭氧 (O?) 和載物臺加熱器的熱量,因此可以實現(xiàn)高效清潔,。

2.離子或電子不會對元件造成損壞,。

3.由于配備了使用非貴金屬催化劑的臭氧分解器,因此不需要臭氧處理設(shè)備,。

4.由于大氣壓處理,,不需要真空系統(tǒng)。

5.一鍵即可實現(xiàn)自動操作,。

三,、應(yīng)用實例

1.光刻膠灰化、圓盤

2.親水處理

3.硅,、化合物半導(dǎo)體,、晶體、ITO薄膜,、透鏡等的清洗,。



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