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orc半導(dǎo)體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長是什么

時間：2023/8/21閱讀：478
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用途：

支持多種應(yīng)用程序


支持WL-CSP,、IGBT,、CIS等的光刻6/8/12英寸,。

特長：

  1. 寬帶曝光（與配方聯(lián)動的自動切換ghi線gh線,，i線）。

  2. 搭載可變NA功能（0.16和0.1的可變）,。

  3. 最多8個字段的條形圖設(shè)計格式,。

  4. 由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學(xué)保護的光學(xué)系統(tǒng)。

    規(guī)格：


    型式PPS-8200/8300
    ウェーハサイズ6/8/12インチ
    解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
    NA（開口數(shù)）0.16,、0.1可変
    縮小比1:1
    Fieldサイズ52mm × 33mm
    露光波長ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動)
    レチクルサイズ6inch
    重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
    裝置サイズ／重量（W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg
    主要オプションバックサイドアライメントシステム
    ウェーハ周辺露光システム
    ウェーハ周辺非露光システム
    薄ウェーハ搬送システム
    GEM通信対応
    インライン対応


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