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果果儀器 晶圓加熱裝置在半導體制程過程中非常重要,,特別是在一些關鍵工藝中,,如晶圓退火、鍵合,、勻膠,、刻蝕、氣相沉積等,,它可以提供穩(wěn)定的溫場環(huán)境及精密的盤面均勻溫度,,確保晶圓在各種溫區(qū)中的加熱要求,從而實現半導體器件的制造和研發(fā),。
快速升溫
溫度均勻
控溫穩(wěn)定
多溫區(qū)可調
適用領域:半導體,、芯片、晶圓等
8英寸不銹鋼晶圓鍵合加熱模塊:
8英寸鋁合金加熱盤:
晶圓加熱盤,,RT~400℃,,溫度均勻性≤±4℃,盤面平整度≤0.02mm
8英寸不銹鋼加熱盤:
RT~550℃,,真空時使用
↑ 仿真模擬 ↑
↑ 平面度檢測及溫控曲線 ↑