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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>制冷加熱循環(huán)機>> SUNDI-375高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置

參   考   價: 158870

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SUNDI-375

品       牌冠亞制冷

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時間:2025-01-17 10:19:05瀏覽次數(shù):353次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-20萬
應用領域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合
【無錫冠亞】高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置,,應用于對玻璃反應釜,、金屬反應釜,、生物反應器進行升降溫,、恒溫控制,,尤其適合在反應過程中有需熱,、放熱過程控制,。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻,、恒溫系統(tǒng),。

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制,、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制,、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng),、蒸飽系統(tǒng)控溫,、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制,、半導體設備冷卻加熱,、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質(zhì) 溫度,、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,,溫度曲線顯示,、記錄

安全防護

具有自我診斷功能,;冷凍機過載保護,;高壓壓力開關,過載繼電器,、熱保護裝置等多種安全保障功能,。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置

高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置

   

  1. 材料性能測試

  在材料科學領域,,高低溫液體循環(huán)裝置常用于模擬環(huán)境條件下的材料性能測試,,通過準確控制溫度,研究人員可以更加準確地了解材料在不同溫度下的行為特性,,為材料的設計,、優(yōu)化和應用提供科學依據(jù)。

  2. 生物醫(yī)藥研究

  高低溫液體循環(huán)裝置可用于細胞培養(yǎng),、藥物穩(wěn)定性測試,、生物樣品保存等方面。例如,,在細胞培養(yǎng)過程中,,通過準確控制培養(yǎng)液的溫度,可以模擬人體內(nèi)的生理環(huán)境,,促進細胞的正常生長和分化,;在藥物穩(wěn)定性測試中,則可以通過模擬不同溫度條件,,評估藥物在不同環(huán)境下的保質(zhì)期和藥效變化,。

  3. 化學工程與合成

  在化學工程與合成領域,它可用于化學反應的溫度控制,,確保反應在溫度條件下進行,,提高反應效率和產(chǎn)率。同時,,對于需要準確控制溫度梯度的復雜反應體系,,高低溫液體循環(huán)裝置也能提供有效的解決方案,。

  4. 物理研究與測試

  在物理研究領域,高低溫液體循環(huán)裝置常用于超導材料,、量子計算,、熱力學性質(zhì)研究等方面。通過創(chuàng)造溫度條件,,研究人員可以探索物質(zhì)的新性質(zhì)和新現(xiàn)象,。

  高低溫液體循環(huán)裝置不僅提高了實驗數(shù)據(jù)的準確性和可靠性,為實驗室研究提供更加有力的支持,。


高低溫設備-10~200℃ 制冷加熱循環(huán)裝置





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