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無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
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當前位置:無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>高低溫循環(huán)泵>> SUNDI-535實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SUNDI-535

品       牌LNEYA/無錫冠亞

廠商性質生產(chǎn)商

所  在  地無錫市

更新時間:2025-01-13 08:05:00瀏覽次數(shù):1176次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天
實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理,,應用于對玻璃反應釜,、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制,。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻,、恒溫系統(tǒng),。

<strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制,、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制,、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng),、蒸飽系統(tǒng)控溫,、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制,、半導體設備冷卻加熱,、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
介質溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制,、可設定
程序編輯可編制5條程序,,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度,、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525
制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
100℃5.57.5101525
20℃5.57.5101525
-20℃4.868.21225
-40℃2.33.14.87.818
-55℃0.750.91.52.86
流量壓力 max  L/min bar355060110150
222.52.52.5
循環(huán)泵冠亞磁力驅動泵
壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能,;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,,過載繼電器,、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),,高溫時不會有油霧,、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,,低溫自動補充導熱介質,。
制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
水冷型 W
溫度 20度
1800L/H
1.5bar~4bar
G3/4
2100L/H
1.5bar~4bar
G3/4
3000L/H
1.5bar~4bar
G1
4000L/H
1.5bar~4bar
G1 1/8
8.5m³/H
1.5bar~4bar
DN40
外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
重量kg265305340380980
電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

 <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

實驗室高低溫循環(huán)裝置應用原理

  實驗室高低溫循環(huán)裝置相比傳統(tǒng)手動釜式加熱制冷方式有一定的降耗、減少排放的優(yōu)勢,。近年來,,隨著中國的制藥行業(yè)在不斷的發(fā)展進步,此類設備的應用會越來越廣泛,。

  實驗室高低溫循環(huán)裝置具有升溫/降溫或者加熱/冷卻的功用,運用反應釜進行物料之間的混合或是化學反應,伴隨著放熱或吸熱的過程,這部分熱量需要經(jīng)過一種設備使之維持均衡,保持在一定的溫度規(guī)模內(nèi),出產(chǎn)正常進行,,反應釜化工行業(yè)高低溫循環(huán)裝置起著不行忽視的作用。

  實驗室高低溫循環(huán)裝置采用夾套式反應釜溫度串級控制原理,,將釜內(nèi)溫度作為主調節(jié)器,,夾套溫度作為副調節(jié)器,把一次擾動即加入物料和物料化學反應的放熱對釜內(nèi)溫度的擾動放在主被控過程上,,把二次擾動即蒸汽和冷凍水對夾套溫度的擾動放在副被控過程上,。這樣一來可以及早克服進入副回路的擾動,而且又能改善過程特性,。

  實驗室高低溫循環(huán)裝置已經(jīng)廣泛使用在反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制,、微通道反應器冷熱源恒溫控制、制冷加熱恒溫控制中,,行業(yè)涉及制藥,、化工、科研機構等行業(yè)領域中,。

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