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TCU設計_清洗

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號

品       牌LNEYA/無錫冠亞

廠商性質生產商

所  在  地無錫市

更新時間:2024-12-31 08:57:47瀏覽次數:983次

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TCU設計_清洗 選擇大家在選擇溫度控制單元tcu的時候,,對于每個型號的技術參數都是需要重視的,,因為不同的型號涉及到的接口,、循環(huán)泵等配件信息是不樣的,,所以大家對于溫度控制單元tcu的技術參數定要有個清楚點了解認識,。

 

大家在選擇溫度控制單元tcu的時候,對于每個型號的技術參數都是需要重視的,,因為不同的型號涉及到的接口、循環(huán)泵等配件信息是不樣的,,所以大家對于溫度控制單元tcu的技術參數定要有個清楚點了解認識,。

TCU設計_清洗

 

  溫度控制單元tcu設備介質溫度范圍在-25~200℃,當然可根據要求要設計-50~250℃的系統(tǒng),,在型號上面可以選擇ZLF-25,、ZLF-40ZLF-80,、ZLF-120,、ZLF-200這四種型號,采用帶前饋PID+動態(tài)控制無模型自建樹算法,,來控制反應釜物料溫度,,并且顯示各個溫度的實時控制情況。

  溫度控制單元tcu的物料溫度精度在攪拌均勻情況下±1℃,,般情況下±2℃,,在溫度反饋上面,導熱介質進出液口溫度反饋PT100,、反應釜物料反饋PT100,,并且可以選配,反應釜物料溫度4點采集,,只要物料溫度傳感器1只是正常工作的既可以正常工作,,出現只物料傳感器故障,提供警示報警,,般2只,、3只故障樣的話,只是警示不停機的,,這點需要注意的,。TCU設計_清洗

  不同型號的溫度控制單元tcu其接口尺寸、外型尺寸,、EX外形尺寸,、電源大小這些設置都是有不樣的,具體如下:

  ZLF-25接口尺寸新配置DN32,,外型尺寸600*900*1450,,EX外型尺寸選擇600*1000*1450,電源選擇AC380V 50HZ 2KW(max),;

  ZLF-40接口尺寸新配置DN40,,外型尺寸600*900*1450,,EX外型尺寸選擇600*1000*1450,電源選擇AC380V 50HZ 3KW(max),;

  ZLF-80接口尺寸新配置DN50,,外型尺寸800*1250*1600EX外型尺寸選擇800*1250*1600,,電源選擇AC380V 50HZ 4.5KW(max),;

  ZLF-120接口尺寸新配置DN65,外型尺寸800*1250*1600,,EX外型尺寸選擇800*1250*1600,,電源選擇AC380V 50HZ 7W(max)

  ZLF-200接口尺寸新配置DN65,,外型尺寸800*1250*1600,,EX外型尺寸選擇800*1250*1600,電源選擇AC380V 50HZ 9KW(max),;

  在安全方面溫度控制單元tcu具有自我診斷功能,,過載電器、熱保護裝置,、傳感器故障保護,、相序斷相保護器、漏電保護器等多種安全保障功能,,大家在使用的過程中,,就不用擔心些安全問題,比較安全靠譜,。

溫度控制單元tcu除了上述還可以運用于純降溫制冷系統(tǒng),,只需要在電氣控制系統(tǒng)面板中按下反方向控制按鈕就可以了。

【簡單介紹】

產地國產產品新舊全新
品牌其他品牌是否定做
供應商生產商產品大小小型
溫度低溫適用對象其他
應用域其他箱門結構單開門
制冷方式直冷式能效等2

無錫品牌TCU價格表,,TCU應用域 過精確快速運算控制整個反應過程溫度,,對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制;

【詳細說明】

TCU分析說明

TCU控溫系統(tǒng) 采用現有的熱能(如蒸汽,、冷卻水及超低溫液體——初系統(tǒng))基礎設施集成到用來控制工藝設備溫度的單流體系統(tǒng)或二回路中,。這就完成了只有種熱傳導液體流入到反應容器的夾套中(而不是直接通入蒸汽、冷卻水或超低溫液體),。通過運算控制整個反應過程溫度,。TCU品牌/廠家

 

使用單流體熱傳遞控溫系統(tǒng)有以下優(yōu)點:

 

A、用戶可以在個較寬的溫度范圍得到個密閉的,、可重復的溫度控制,,可實現-120度~300度控溫;

B、避免了傳統(tǒng)設備設施的更換及夾套維護的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應并且熱反應延遲很小,;

C,、內置電加熱導熱油輔助系統(tǒng),可根據需求自動開啟輔助加熱系統(tǒng),,降低蒸汽使用壓力

D,、可以通過快速運行精確配比各熱量需求,,達到節(jié)約能源目的;

E,、通過精確快速運算控制整個反應過程溫度,,對于整個反應過程中出現放熱和吸熱反應進行快速響應控制;

F,、預留有標準化接口,,可根據實際需求增加冷熱源換熱模塊;

G,、可選擇控制反應過程溫度和單流體溫度,,同時反應過程溫度與導熱單流體溫度之間的溫差是可設定可控制的;

H,、可進行配方管理與生產過程記錄,; 

 

 

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