低溫恒溫循環(huán)器應(yīng)用域：
生化域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,、阿貝折光儀,、旋光儀,、原子吸收,、ICP-MS ,、ICP、核磁共振,、CCD,、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等,。
材料域：電鏡,、X射線衍射,、X熒光、真空濺射電鍍,、真空鍍膜機,、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備,、疲勞試驗機,、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等,。
醫(yī)療域：超導(dǎo)磁共振,、直線加速器、CT,、低磁場核磁共振,、X光機、微波治療機,、醫(yī)用冷帽,、降溫毯等等。物化域：激光器,、磁場,、各種分子泵、擴散泵,、離子泵以及包括材料域。使用的各種需水冷設(shè)備,。

產(chǎn)品特點：
節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下,，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源,。
效率更高——臺循環(huán)水設(shè)備可同時滿足多臺外部設(shè)備的冷卻需求,，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗,。
控溫精度——PID控溫技術(shù),，內(nèi)置PT100傳感器、控溫精度高,，溫度數(shù)字顯示,，操作直觀
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護(hù)等多種安全保障功能,。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）,、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經(jīng)常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其低溫度必須在0℃以上,。

冷卻水選型相關(guān)：
通常,，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器,、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀,、平行反應(yīng)器,、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于AAS,、ICP,、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè),，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀,、索氏提取、固液萃取儀,、凱氏定氮儀等實驗室設(shè)備,，激光打標(biāo)機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè),。制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應(yīng)用于X－衍射儀,、磁質(zhì)譜儀、疲勞試驗機,、真空鍍膜機,、塑料成形設(shè)備、激光切割機,、X－熒光光譜儀,、紅外光譜儀、差熱分析儀,、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設(shè)備,。

低溫恒溫循環(huán)器應(yīng)用范圍：對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機,、自動夾座安裝裝置,、噴涂裝置、離子鍍裝置,、蝕刻裝置,、單晶片處理裝置、切片機,、包裝機,、顯影劑的溫度管理、露光裝置,、生磁部分的加熱裝置等,。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分,、激光標(biāo)志裝置,、發(fā)生裝置,、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接,、自動包裝機,、模具冷卻、洗凈機械,、鍍金槽,、精密研磨機、射出成型機,、樹脂成型機的成型部分等,。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分,、分光光度計的發(fā)熱部分,、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等,。水箱可用的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻,，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命,。