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半導(dǎo)體深冷機(jī)chiller:半導(dǎo)體制程工藝過程定制化溫控方案

時間:2025/5/30閱讀:204
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  在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的當(dāng)下,,半導(dǎo)體深冷機(jī)已成為其中的控溫設(shè)備,。作為專業(yè)的冷卻設(shè)備制造商,,冠亞恒溫致力于為芯片制造提供穩(wěn)定,、有效的溫度控制方案,,從而保障半導(dǎo)體產(chǎn)品的品質(zhì)與性能表現(xiàn),。

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  一、半導(dǎo)體深冷機(jī)工作原理

  半導(dǎo)體深冷機(jī)主要由制冷系統(tǒng),、循環(huán)系統(tǒng),、控制系統(tǒng)及箱體等核心部件構(gòu)成。其制冷系統(tǒng)采用蒸汽壓縮式制冷技術(shù),,壓縮機(jī)及主要制冷組件均選用國際品牌,,確保制冷效果。循環(huán)系統(tǒng)則包括循環(huán)泵,、電加熱器,、膨脹容器、排氣閥,、單向閥,、熱電阻以及循環(huán)管道等,,共同協(xié)作實現(xiàn)流體的循環(huán)與溫度控制??刂葡到y(tǒng)采用PID控制技術(shù),,配備高清觸摸屏,并設(shè)有多種保護(hù)功能,,以確保設(shè)備的安全穩(wěn)定運行,。通過機(jī)組自身的制冷與加熱功能,半導(dǎo)體深冷機(jī)能夠向外界輸送穩(wěn)定的載熱流體,,滿足各種工藝條件的需求,。

  二、半導(dǎo)體深冷機(jī)控溫對象

  1.硅片制造:提供穩(wěn)定冷卻,,確?;瘜W(xué)機(jī)械拋光(CMP)效果均勻,提高硅片質(zhì)量,。

  2.沉積:控制薄膜沉積過程中的溫度,,避免質(zhì)量不均。

  3.光刻:調(diào)節(jié)曝光過程中的溫度,,防止光刻膠流動,,提高光刻精度。

  4.刻蝕:穩(wěn)定刻蝕環(huán)境,,防止過熱導(dǎo)致的刻蝕不均,。

  5.離子注入:冷卻離子注入過程中的熱量,確保離子分布均勻,。

  6.清洗:控制清洗液溫度,提高清洗效果,。

  7.電鍍:保持電鍍液溫度,,確保鍍層均勻和結(jié)合力強(qiáng)。

  8.測試:提供恒定測試環(huán)境,,確保測試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,。

  三、半導(dǎo)體深冷機(jī)產(chǎn)品特點

  1,、全密閉系統(tǒng)設(shè)計

  循環(huán)管路采用全密閉設(shè)計,,并配備呼吸孔,有效延長導(dǎo)熱油的使用壽命,,確保系統(tǒng)運行的穩(wěn)定性,,同時避免油霧結(jié)霜現(xiàn)象的發(fā)生。

  2,、自主溫度控制模塊

  該模塊支持控制設(shè)定的靈活調(diào)整,,能夠快速響應(yīng)系統(tǒng)滯后,,確保溫度控制的準(zhǔn)確性。采用兩組PID控制回路(主,、從回路),,結(jié)合前饋PV技術(shù),實現(xiàn)梯度控制,,進(jìn)一步提高溫度控制的精度,。

  3、有效換熱系統(tǒng)

  系統(tǒng)采用管道式加熱冷卻與緊湊的容積設(shè)計,,配備板式換熱器(用于制冷)和管道式法蘭加熱器(用于加熱),,實現(xiàn)有效的熱交換過程。

  4,、控制重復(fù)性與穩(wěn)定性

  半導(dǎo)體深冷機(jī)采用動態(tài)控制系統(tǒng),,顯著提升控制的重復(fù)性與穩(wěn)定性,確保設(shè)備在長時間運行過程中保持性能表現(xiàn),。

  5,、產(chǎn)品外觀特點

  設(shè)備配備玻璃液位計,便于用戶觀察設(shè)備內(nèi)部情況,,整體設(shè)計簡約時尚,,既實用又美觀。

半導(dǎo)體深冷機(jī)通過提供準(zhǔn)確和穩(wěn)定的溫度控制,,Chiller有助于提高封裝過程的質(zhì)量和效率,,確保存儲芯片的性能和可靠性。


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