半導體用工業(yè)冷水機chiller對半導體設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度,、流量和壓力進行準確控制,，以實現(xiàn)半導體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備,，溫控精度和溫控范圍要求高,，應(yīng)用在刻蝕、薄膜沉積,、涂膠顯影,、離子注入,、CMP等設(shè)備。
半導體制造工藝主要分為兩大類：前道工藝（晶圓制造）和后道工藝（封裝與測試）,。前道工藝涉及硅片加工,、光刻、刻蝕,、離子注入,、薄膜沉積、清洗,、拋光,、金屬化等環(huán)節(jié)，對應(yīng)的核心設(shè)備包括硅片加工設(shè)備,、光刻設(shè)備,、刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備,、離子注入設(shè)備,、薄膜沉積設(shè)備、機械拋光設(shè)備,、量測設(shè)備等,。后道工藝涉及封裝設(shè)備和測試設(shè)備。冠亞恒溫半導體溫用工業(yè)冷水機chiller半導體制造工藝過程中的高精度溫度控制,，擁有超過14年的溫度控制經(jīng)驗和與各行業(yè)配套的經(jīng)驗,，冠亞恒溫為客戶提供標準化和定制化的溫度控制產(chǎn)品，結(jié)合專業(yè)技術(shù)知識,，確保滿足半導體工藝中的苛刻溫度要求,。
作為半導體溫控設(shè)備供應(yīng)商，冠亞恒溫擁有多年的溫度控制經(jīng)驗以及設(shè)備機臺配套經(jīng)驗,，掌握了制冷加熱動態(tài)控制技術(shù)以及準確控溫技術(shù)等半導體溫控設(shè)備核心技術(shù),，具備單通道、多通道半導體溫控設(shè)備批量生產(chǎn)能力,；可實現(xiàn)從晶圓制造,、涂膠顯影、刻蝕,、清洗,、薄膜沉積到實驗室測試研發(fā)等各個環(huán)節(jié)中的準確溫控。冠亞恒溫目前已與半導體多領(lǐng)域行業(yè)大企業(yè)達成合作,，可為客戶提供標準品及用戶定制品,，自2010年創(chuàng)辦以來不斷創(chuàng)新，注重研發(fā)和質(zhì)量把控,，生產(chǎn)的工業(yè)冷水機chiller系列產(chǎn)品具有設(shè)置方便,、快速響應(yīng)而準確控溫等特點,，實現(xiàn)了低能耗、高穩(wěn)定性的冷卻效果,，賦能半導體晶圓制造,。
