一,、需求背景介紹:
在光電技術(shù)研究和生產(chǎn)中,,涉及頻繁的流體流量控制和計(jì)量工作,,對(duì)準(zhǔn)確度和可靠性有較高要求。在測(cè)控測(cè)量?jī)x器選擇上,,光電企業(yè)或?qū)嶒?yàn)室會(huì)根據(jù)工況和需求,,提出更嚴(yán)謹(jǐn)和專(zhuān)業(yè)的品控要求。
近期,,我們接到國(guó)內(nèi)某光電研究所的需求,,需要定制雙閥壓力控制器。該研究所屬重點(diǎn)研究所,,規(guī)模較大,,研究方向和領(lǐng)域廣泛,在國(guó)內(nèi)光電研究上取得較高的成就,,在光電研發(fā)和應(yīng)用方面具有重要的地位和影響力,。
二、實(shí)際工況需求:
在光電相關(guān)作業(yè)中,,涉及的目標(biāo)腔體由吸盤(pán)和光學(xué)元件組成,。操作者向光學(xué)元件內(nèi)注入氣體氣壓,通過(guò)氣壓來(lái)影響光學(xué)元件形變,。因光學(xué)元件薄壁厚度較薄,,加之工況需求調(diào)整,研究所對(duì)氣壓的控制響應(yīng)時(shí)間,,即穩(wěn)壓時(shí)間提出了較高要求,。
既有的工況中,氣源經(jīng)過(guò)壓力控制器,,直接進(jìn)入目標(biāo)腔體,,穩(wěn)壓時(shí)間(氣控時(shí)間)相對(duì)較長(zhǎng),。
圖:某光電研究所既有工況
該光電研究所提出以下需求:
1.縮短氣控時(shí)間,,提高氣控精度;
2.在氣壓控制上,,氣壓范圍要符合工況要求,;
3.各項(xiàng)精度符合工況,精確控制薄壁形變,;
4.可以提供及時(shí)到位的售后咨詢(xún)和服務(wù),。
三、解決方案:
基于該光電研究所提供的工況及細(xì)節(jié),,精量科技的技術(shù)負(fù)責(zé)人提供一套定制化的解決方案:
從氣源到目標(biāo)控壓腔體之間,,除了雙閥壓力控制器外,分別增加一個(gè)2L的氣罐和一個(gè)電磁閥,。
圖:精量科技解決方案流程
具體過(guò)程和效果如下:
在初始狀態(tài)下,,電磁閥處于關(guān)閉狀態(tài)。
先通過(guò)精量科技ACU20PCD雙閥壓力控制器,,給下游的氣罐充氣至6KPa左右,,等待預(yù)制大腔體壓力穩(wěn)定后,再將電磁閥打開(kāi),,給目標(biāo)控壓腔體充氣。同時(shí),雙閥控制器將壓力控制設(shè)定為5KPa,,成功實(shí)現(xiàn)100ms內(nèi)將腔體壓力控制為5KPa。
圖:為某光電研究所提供的解決方案中使用的定制化雙閥壓力控制器
通過(guò)該方案,,光電研究所利用我司的定制化解決方案,,實(shí)現(xiàn)了最初的預(yù)想:
該光電研究所根據(jù)解決方案,,先后分批次采購(gòu)對(duì)應(yīng)的定制化雙閥壓力控制器,,用于光電項(xiàng)目生產(chǎn)作業(yè)中。
如需溝通壓力控制方案,,請(qǐng)與頁(yè)面的產(chǎn)品經(jīng)理聯(lián)系,。
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