EDI電鍍超純水設(shè)備連續(xù)電除鹽（EDI,，Electro-deionization或CDI，Continuous Electrode ionization）,，是一種將離子交換技術(shù),，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù),。這一新技術(shù)可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換,，生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18 MΩ·cm的超純水 ,。EDI超純水設(shè)備具有連續(xù)出水,、無(wú)需酸堿再生、出水水質(zhì)穩(wěn)定,，模塊能耗少,，節(jié)約運(yùn)行費(fèi)用，容易實(shí)現(xiàn)在整體式的模塊排列,，重量輕,，結(jié)構(gòu)緊湊，和無(wú)人值守等優(yōu)點(diǎn),，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用,。這種先進(jìn)技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡(jiǎn)便,，愈來(lái)愈多地被人們所認(rèn)可,，也愈來(lái)愈多地在各大行業(yè)中得到推廣。

水質(zhì)：電阻率>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體,、集成電路芯片及封裝,、液晶顯示,、高精度線路板、光電器件產(chǎn)品,、單晶硅,、多晶硅清洗需用大量的純水、高純水,、超純水清洗半成品,、成品。
根據(jù)行業(yè)的不同要求,，制取純水,、超純水工藝大致分為以下四種：

1、采用離子交換方式,，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾→陰樹(shù)脂過(guò)濾→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2,、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→二級(jí)反滲透→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3,、采用EDI方式,，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

4、原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)→高效混合器→精密過(guò)濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

超純水處理系統(tǒng),、超純水處理設(shè)備的工藝特點(diǎn)： EDI超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,電鍍超純水設(shè)備

在設(shè)備設(shè)計(jì)上,，采用成熟、可靠,、先進(jìn),、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)反滲透＋EDI水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)符合要求,，水利用率高,，運(yùn)行可靠，經(jīng)濟(jì)合理,。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用國(guó)際主流先進(jìn)可靠產(chǎn)品,，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動(dòng)化程度高,，系統(tǒng)穩(wěn)定性高,。大大節(jié)省人力成本和維護(hù)成本。使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性,。

EDI電鍍超純水設(shè)備的特點(diǎn)：
超純水處理系統(tǒng)、超純水處理設(shè)備應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后,，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水,。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：
1、無(wú)需酸堿再生, 不會(huì)因再生而停機(jī)， 水質(zhì)穩(wěn)定,，無(wú)污水排放： 在混床中樹(shù)脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生,， 且需要安全儲(chǔ)存酸堿的車間， 再生時(shí)有大量有害廢水和廢棄物需處理,，增加了環(huán)保和安全方面的工作困難,。 而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護(hù)了環(huán)境,。
2,、運(yùn)行費(fèi)用低， 連續(xù),、簡(jiǎn)單的操作,， 容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過(guò)程變得復(fù)雜,，而EDI的產(chǎn)水過(guò)程是穩(wěn)定的連續(xù)的,，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒(méi)有復(fù)雜的操作程序,，操作大大簡(jiǎn)便化,。
3、廠房面積小,，降低了安裝的要求：EDI系統(tǒng)與相當(dāng)處理水量的混床相比,，有較不的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu),，可依據(jù)場(chǎng)地的高度和窨靈活地構(gòu)造,。模塊化的設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù),。

EDI超純水處理設(shè)備系統(tǒng)原理：  EDI超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,電鍍超純水設(shè)備

EDI超純水處理設(shè)備設(shè)備系統(tǒng)是利用混和離子交換樹(shù)脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子,，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程,。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜,陽(yáng)膜和隔板多組交替排列,，構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜),。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜,，被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜,，被濃室中的陽(yáng)膜截留,，這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水,，而濃室的水中,，由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水,，從而達(dá)到淡化,，提純，濃縮或精制的目的,。這一過(guò)程離子交換樹(shù)脂是電連續(xù)再生的,，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置,，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水 ,。

超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域： 　　

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　　

電子管生產(chǎn),、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水,； 　　

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗,、沉淀,、濕潤(rùn)、洗膜,、管頸清洗用純水,；　　

生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液； 　　

晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片,；　　

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片,； 　

半導(dǎo)體材料、器件,、印刷電路板和集成電路用純水,； 　　

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn),、加工,、清洗；

高品質(zhì)顯像管,、螢光粉生產(chǎn),；　　　

汽車、家電表面拋光處理,。