超純水 (UPW),、高純度水或高純度水 (HPW) 是經(jīng)過凈化以達到非常嚴格的規(guī)格的水,。 超純水是制造業(yè)中常用的一個術語，用于強調(diào)這樣一個事實,，即針對所有污染物類型對水進行最高純度處理,，包括：有機和無機化合物,； 溶解物和顆粒物； 揮發(fā)性和非揮發(fā)性,； 反應性和惰性,； 親水性和疏水性； 和溶解的氣體,。

UPW 與常用術語去離子 (DI) 水不同,。 除了 UPW 去除有機顆粒和溶解氣體這一事實外，典型的 UPW 系統(tǒng)還包括三個階段：生產(chǎn)純凈水的預處理階段,，進一步凈化水的初級階段,，以及拋光階段，這是最昂貴的部分 治療過程,。

許多組織和團體制定并發(fā)布了與 UPW 生產(chǎn)相關的標準,。

zui廣泛使用的 UPW 質(zhì)量要求記錄在 ASTM D5127 電子和半導體行業(yè)超純水標準指南和半導體加工超純水 SEMI F63 指南中。

超純水也被用作英國 AGR 船隊的鍋爐給水,。

細菌,、顆粒、有機和無機污染源因多種因素而異,，包括制造超純水的給水,，以及用于輸送它的管道材料的選擇。 通常以每體積 UPW 的菌落形成單位 (CFU) 報告細菌,。 顆粒使用每體積 UPW 的數(shù)量,。 總有機碳 (TOC)、金屬污染物和陰離子污染物均以無量綱的單位表示法測量,，例如 ppm,、ppb、ppt 和 ppq,。

細菌被稱為該列表中最頑固的控制之一,。 有助于xxx限度減少 UPW 流內(nèi)細菌菌落生長的技術包括偶爾的化學或蒸汽消毒（這在制藥行業(yè)很常見）、超濾（在一些制藥行業(yè),，但主要是半導體行業(yè)）,、臭氧化和優(yōu)化管道系統(tǒng)設計，以促進 使用最小流量的雷諾數(shù)標準,，以及最小化死角,。 在現(xiàn)代和先進的 UPW 系統(tǒng)中，通常在新建設施中觀察到陽性（高于零）細菌計數(shù),。 這個問題可以通過使用臭氧或過氧化氫進行消毒來有效解決,。 通過正確設計拋光和分配系統(tǒng)，在 UPW 系統(tǒng)的整個生命周期中通常不會檢測到陽性細菌計數(shù)。

UPW 中的顆粒是半導體行業(yè)的禍根,，會導致定義納米尺寸特征的敏感光刻工藝出現(xiàn)缺陷,。 在其他行業(yè)，它們的影響可能從令人討厭到危及生命的缺陷不等,。 可以通過過濾和超濾來控制顆粒,。 來源可能包括細菌碎片、管道濕流中組件壁的脫落,，以及用于構建管道系統(tǒng)的連接過程的清潔度,。

超純水中的總有機碳可以通過提供養(yǎng)分促進細菌增殖，可以在敏感的熱過程中作為碳化物替代另一種化學物質(zhì),，以不需要的方式與生物加工中的生化反應發(fā)生反應,，并且在嚴重的情況下會留下不需要的殘留物 在生產(chǎn)零件上。 TOC 可能來自用于生產(chǎn) UPW 的進水,、來自用于輸送 UPW 的成分（制造管道產(chǎn)品中的添加劑或擠出助劑和脫模劑）,、來自管道系統(tǒng)的后續(xù)制造和清潔操作，或來自臟管道 ,、配件和閥門,。

超純水系統(tǒng)中的金屬和陰離子污染會關閉生物工藝中的酶促過程，腐蝕發(fā)電行業(yè)的設備,，并導致半導體芯片和光伏電池中的電子元件出現(xiàn)短期或長期故障,。 它的來源與 TOC 的來源相似。 根據(jù)所需的純度水平,，這些污染物的檢測范圍從簡單的電導率（電解）讀數(shù)到復雜的儀器,。