高等級鉆石生長的工藝是采用化學氣相沉積（CVD）和微波等離子體CVD（MPCVD）技術,，另外CVD和MPCVD工藝還可用于在鉆石以外的基材上進行鉆石沉積,，這為許多行業(yè)帶來了技術上的進步，如光學,、計算機科學和工具生產(chǎn),。
在采用CVD和MPCVD工藝進行鉆石生長過程中，需要嚴格調(diào)節(jié)和控制CVD工藝的溫度,、真空壓力和氣體成分,，這三個變量中的任何一個變化或波動都會影響鉆石的生長速度、純度和顏色,。這三個變量在實際工藝中分別代表了溫度,、真空壓力和工作氣體的質(zhì)量流量，即在CVD工藝中一般是在進氣口處采用氣體質(zhì)量流量控制器控制氫氣和甲烷以達到設定的混合氣體成分,，通過溫度傳感器和加熱裝置來調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的溫度,，最后在出氣口處通過真空計和電動閥門來調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的真空壓力。
針對以上氣體質(zhì)量流量的控制環(huán)節(jié),，格里爾斯GRYLLS開發(fā)了CVD（MPCVD)金剛石行業(yè)專用特氣氣路盤,，該產(chǎn)品以隔膜閥，單向閥,，EP級彎頭,，微米級過濾器，質(zhì)量流量控制器MFC等零部件實現(xiàn)對多種工藝氣體的精確流量控制,。
經(jīng)過多年研發(fā)和經(jīng)驗的沉積,，格里爾斯GRYLLS質(zhì)量流量計的氣路盤，具有高密封性,，高精度,，集成度高等優(yōu)點，產(chǎn)品成熟穩(wěn)定已經(jīng)在多個CVD(MPCVD）生產(chǎn)企業(yè)得到應用,，為用戶減少了研發(fā),、組裝,、驗證時間，大大降低了用戶的總體生產(chǎn)成本,。
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