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光刻膠干式剝離設(shè)備Suprema®XPDryStrip是指晶圓片上的掩模層在圖案加工完成后被除去
美國(guó)SCS旋轉(zhuǎn)涂覆儀G3系列G3-8:G3系列不可編程旋轉(zhuǎn)涂敷機(jī),,8"旋涂盤(pán),,單一涂敷程序
美國(guó)HarrichPDC-MG高集成度等離子清洗機(jī)技術(shù)參數(shù):1
德國(guó)SENresearch4.0:擁有寬光譜范圍的光譜橢偏儀新的SENresearch4.0設(shè)計(jì)用于光譜橢偏儀,在寬的光譜范圍從190nm(深紫外)到3,500...
德國(guó)SentechSE800PV激光橢偏儀疊層防反射涂層:可以分析SiO2/SiNx,、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂層
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785納米激光激發(fā)功能
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德Bruker光學(xué)輪廓儀ContoruGT
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AgilentFragmentAnalyzer5400全自動(dòng)毛細(xì)管電泳系統(tǒng)FragmentAnalyzer5400全自動(dòng)毛細(xì)管電泳系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為各種高通量實(shí)驗(yàn)室設(shè)...
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