1,、真空室
涂層設備主要有連續(xù)涂層生產線及單室涂層機兩種形式，不銹鋼材料制造,、氬弧焊接,、表面進行化學拋光處理，真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口,。
2,、真空獲得部分
在真空技術中，真空獲得部分是重要組成部分,。真空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到的,，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機械泵,、羅茨泵,、分子泵系統(tǒng)等。
3,、真空測量部分
真空系統(tǒng)的真空測量部分,，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣,，沒有一種真空計能測量整個真空范圍,，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計。如熱偶計,，電離計,，皮拉尼計等。
4,、電源供給部分
靶電源主要有直流電源,、中頻電源、脈沖電源,、射頻電源(RF),，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等。
5,、工藝氣體輸入系統(tǒng)
工藝氣體,，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr),、氮氣(N2),、乙炔(C2H2),、甲烷(CH4)、氫氣(H2),、氧氣(O2)等,，一般均由氣瓶供應，經氣體減壓閥,、氣體截止閥,、管路、氣體流量計,、電磁閥,、壓電閥，然后通入真空室,。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點是,，管路簡捷、明快,，維修或更換氣瓶容易,。各涂層機之間互不影響。也有多臺涂層機共用一組氣瓶的情況,，這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機會看到,。它的好處是，減少氣瓶占用量,，統(tǒng)一規(guī)劃,、統(tǒng)一布局。缺點是,，由于接頭增多,，使漏氣機會增加。而且,，各涂層機之間會互相干擾,，一臺涂層機的管路漏氣，有可能會影響到其他涂層機的產品質量,。此外,，更換氣瓶時，必須保證所有機臺都處于非用氣狀態(tài),。
6,、機械傳動部分
涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此,，在涂層過程中須有三個轉動量才能滿足要求,。即在要求大工件臺轉動(I)的同時，小的工件承載臺也轉動(II),并且工件本身還能同時自轉(III)。在機械設計上,，一般是在大工件轉盤底部中央為一大的主動齒輪,，周圍是一些小的星行輪與之嚙合,，如果要實現(xiàn)產品自轉的話,，一般用撥叉撥動工件自轉。
7,、加熱及測溫部分
涂層設備一般有不同位置的加熱器,，用熱電偶測控溫度。但是,，由于熱電偶裝夾的位置與工件位置不同,，溫度讀數(shù)不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫度,，有很多方法,，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
8,、離子蒸發(fā)及濺射源
多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形,，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶,。靶座中裝有磁鐵,，通過前后移動磁鐵，改變磁場強度,，可調整弧斑移動速度及軌跡,。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水,。為了保證靶與靶座之間的高導電,、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫墊片,。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極,。
9、水冷系統(tǒng)
一般由冷水塔,，冰水機,，水泵等組成。
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