控濺射原理電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片,。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜,，而二次電子在加速飛翔基材時(shí),，在磁場(chǎng)的洛侖茲力影響之下，呈現(xiàn)螺旋線(xiàn)狀與擺線(xiàn)的復(fù)合形式在靶表面做一系列圓周運(yùn)動(dòng),，該電子不但運(yùn)動(dòng)路徑長(zhǎng),，還是被電磁場(chǎng)理論束博在靠近靶面的等離子體區(qū)域范圍內(nèi),，于此區(qū)內(nèi)電離出大量的Ar，對(duì)靶材進(jìn)行轟擊,，所以說(shuō)磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積速率高,。
從而出現(xiàn)了磁控濺射鍍膜這個(gè)設(shè)備，該設(shè)備集控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,，對(duì)提高顏色一致性,，沉積速率機(jī)化合物成分的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,，可選配加熱系統(tǒng),，偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置,，其靶位分布可靈活調(diào)整,，膜層均勻性*，配備不同的靶材,，可鍍制出性能更好的復(fù)合膜層,。設(shè)備所鍍制的膜層具有復(fù)合力強(qiáng)，致密性強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn),，可有效提高產(chǎn)品的鹽霧性,、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿(mǎn)足了高性能膜層制備的需求,。
該設(shè)備的適用材料豐富,，可用于不銹鋼水鍍五金件/塑膠件、玻璃,、陶瓷等材質(zhì),。該系列設(shè)備主要用于電子產(chǎn)品五金件、高檔鐘表,、高檔首飾和品牌皮具的五金件等豐富產(chǎn)品,。
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