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行業(yè)產(chǎn)品

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[供應(yīng)]OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
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  • OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2023-04-24 21:00:27
有效期:
2023年4月24日 -- 2023年10月24日
已獲點擊:
62
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(聯(lián)系我們,,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

產(chǎn)品分類品牌分類

產(chǎn)品簡介

OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng),,最高溫度可以達到1200度、1400度,、1600度,、1700度,加熱區(qū)間可以是單溫區(qū),、雙溫區(qū),、三溫區(qū)等,極限真空可以達到10-3Pa,,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計,,混氣路數(shù)可以是2路、3路,、4路,、5路相混合。

詳細介紹

OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng),,由OTL1200真空管式爐,、石英真空室、射頻電源,、GX供氣系統(tǒng),、抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)組成,。

OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)主要特點:

1,、通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。

2,、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低,。

3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小,。

4,、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好,、一致性和穩(wěn)定性高,。

5、廣泛應(yīng)用于:各種薄膜的生長,,如:SiOx,SiNx,SiOxNy和無定型硅(a-Si:H)等,。

OTL-PECVD-1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)以瑞典Kanthal電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表,移相觸發(fā),、可控硅控制,,爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料,爐管兩端能不銹鋼法蘭密封,,不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴,、閥門和壓力表,抽真空時真空度能夠達到10-3Pa,,具有溫場均衡,、表面溫度低、升降溫度速率快,、節(jié)能,、*等優(yōu)點。

(1),、表面溫度高可達1420℃

(2),、表面為不銹鋼色(非常亮、客戶識別時要注意),、不會生銹,,使用時間再長都不會掉渣。

(3),、Kanthal電阻絲資料下載

(4),、Kanthal電阻絲網(wǎng)站

(5)、電阻均衡,、溫場均衡性好

當電路過流或漏電時,,空開會自動斷開。

爐配有通訊接口和軟件,,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù),,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,,并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來,,隨時可以調(diào)出

1、真空吸濾成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,。

2,、采用日本技術(shù)成型。

3,、爐膛里電阻絲的間距和節(jié)距全部按日本*的熱工技術(shù)布置,、經(jīng)過熱工軟件模擬溫場

4、采用4周加熱,,溫場更加均衡


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