簡(jiǎn)稱(chēng)中科科儀,，歷經(jīng)六十余年的發(fā)展，始終致力于電子光學(xué)和真空技術(shù)領(lǐng)域,，公司業(yè)務(wù)領(lǐng)域覆蓋掃描電子顯微鏡,、氦質(zhì)譜檢漏儀等科學(xué)儀器設(shè)備和分子泵、真空應(yīng)用設(shè)備等核心零部件及產(chǎn)業(yè)設(shè)備,，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天,、半導(dǎo)體、汽車(chē)工業(yè),、新能源,、新材料、節(jié)能環(huán)保等前沿科學(xué)研究和裝備制造領(lǐng)域,。磁懸浮分子泵CXF-200/1401緊湊型結(jié)構(gòu),，滿(mǎn)足更小的物理空間需求、任意角度安裝,，適合各種設(shè)計(jì)需求,、豐富擴(kuò)展功能，滿(mǎn)足客戶(hù)定

CXF-200/1401

產(chǎn)品特點(diǎn)：

節(jié)能：無(wú)摩擦,，避免摩擦熱損耗,、較其它類(lèi)型產(chǎn)品能耗降低30％

高效：更長(zhǎng)的連續(xù)工作時(shí)間、高氣流量和高抽速

靈活：緊湊型結(jié)構(gòu),，滿(mǎn)足更小的物理空間需求,、任意角度安裝，適合各種設(shè)計(jì)需求,、豐富擴(kuò)展功能,，滿(mǎn)足客戶(hù)定制化需求

應(yīng)用領(lǐng)域：

科研、加速器,、碳化硅,、晶體晶振、光伏,、Low-E玻璃鍍膜,、ITO鍍膜、光學(xué)鍍膜,、裝飾鍍膜,、平板顯示、真空爐

電真空、新能源,、新材料,、真空干燥、低溫制冷,、薄膜沉積,、刻蝕、離子注入,、光刻,、電子器件

技術(shù)參數(shù)：

進(jìn)氣口法蘭：DN200 ISO F（標(biāo)配）  DN200 CF(可選)   DN200 LF(可定制)

排氣口法蘭：KF40

抽速速率(L/S)：N₂:1280   Ar:1100    He:880    H₂:560

壓縮比：N2:＞1E8    Ar:＞1E8    He:＞1E4    H2:＞1E3

極限壓強(qiáng)（Pa）：1E-7（橡膠密封）   1E-8（金屬密封）  

最大瞬時(shí)入口流量（sccm）：1100

保護(hù)氣入口法蘭（選配）：KF10

推薦保護(hù)氣體流量:20

最大允許磁場(chǎng)強(qiáng)度:  徑向：3  軸向：15

額定轉(zhuǎn)速（rpm）:30000

啟動(dòng)時(shí)間（min）:≤6

停機(jī)時(shí)間（min）：≤8

冷卻方式：水冷

冷卻水流量（L/min）：2

推薦冷卻水溫度（℃）：20±5

電源電壓（V AC）： 220±10％，50Hz          110±10％,，60Hz

適配電源型號(hào)：CXFD-1001

建議前級(jí)泵： ≥16

重量（kg）：51

產(chǎn)品尺寸圖：