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產品型號

  鈣鈦礦鍍膜機

主要特點

  1,、樣品位于真空室上方,，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜,，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,。

  2、設有烘烤加熱功能,，可在鍍膜過程中加熱樣品,，zui高烘烤加熱溫度為180℃。

  3,、設有斷水,、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

技術參數

  1、鍍膜室：不銹鋼材料,，采用方形前后開門結構,，內帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm

  2,、真空排氣系統：采用分子泵+機械泵系統

  3,、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10^-4Pa

  4、系統漏率：≤1×10^-7Pa

  5,、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上；有機蒸發(fā)源4個,、容積5ml,，2臺蒸發(fā)電源，可測溫,、控溫,，加熱溫度400℃，

                       功率0.5KW,；無機蒸發(fā)源4套,、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源,，加熱電流300A,，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用

                       自動磁力控制方式控制其開啟

  6,、樣品架：安裝在真空室的上蓋上,，可放置Ø120mm的樣品、載玻片,，旋轉速度0-30rpm

  7,、加熱溫度：RT-180℃，測溫,、控溫

  8,、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999Å