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高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
  • 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

貨物所在地:遼寧沈陽市

更新時間:2025-03-04 14:20:29

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高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐,、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,,可進行半導(dǎo)體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火,,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,,Z快升溫速度可達 120℃/s,配有RS485 接口,,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線,。

 

產(chǎn)品型號

  高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

主要特點

  1Al2O3纖維鋼構(gòu),,無需水冷或風(fēng)冷,。

  2內(nèi)爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,,可以提高設(shè)備的加熱效率及延長儀器的使用壽命,。

  3PID制器 ,,可以設(shè)置30段升降溫程序,,并設(shè)有過熱保護和斷偶功能。

  4,、通過CE認證,。

技術(shù)參數(shù)

  1電源:單相208-240V AC  50/60Hz  10KW

  2,、石英管:外徑Φ110mm,,內(nèi)徑Φ103mm,長380mm

  3,、加熱元件:8根紅外燈管,,燈絲長200mm,絲圈Φ10mm,,燈長300mm

  4,、加熱區(qū):300mm

  5工作溫度:zui高溫度1100

  6,、控溫精度:±0.5

  7,、zui高升溫速度:RT-800℃時為50/s800-1000℃時為10/s

  8,、溫控儀:可控硅(SCRPID自動控制

  9,、真空法蘭:不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,,雙層高溫O型圈密封,,長時間在>900℃條件下運行必須采用水                  冷,循環(huán)水流量為0.5m3/hr

  10,、真空度:10-2torr(機械泵),,10-5torr(分子泵)

  11質(zhì)量流量計:3個,,MFC1范圍0-100sccm,,MFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-500sccm,,精度1±%FS

  12,、氣罐:Φ80mm×120mm

產(chǎn)品規(guī)格

  尺寸:爐體760mm×330mm×530mm,真空混氣系統(tǒng)600mm×600mm×597mm

  重量:爐體45kg,,真空混氣系統(tǒng)75kg

 

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