目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600GD高真空磁控濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比,，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
至多可選配四個靶槍,，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜,，應(yīng)用廣泛,。
體積小，操作簡便,。
整機模塊化設(shè)計,，真空腔室、真空泵組,、控制電源分體式設(shè)計,，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,，可以一個電源控制多個靶槍,，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600GD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,，濕度55%Rh±10%Rh下使用,。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2,、電：AC220V 50Hz,，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）,，需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4,、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5,、通風(fēng)裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1,、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜3.5KW 3,、腔體內(nèi)徑：?300mm 4,、極限真空8.0x10-5Pa 5、工作溫度：RT-500℃,，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度） 6,、靶槍數(shù)量：4個 7,、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″,，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 9,、直流濺射功率：500W（可選） 10、射頻濺射功率：300W 11,、載樣臺：?140mm 12、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 13,、保護氣體：Ar,、N2等惰性氣體 14、進氣氣路：質(zhì)量流量計控制2路進氣,，1個流量為100 SCCM,，1個流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | ·尺寸： 主機尺寸：850mm×760mm×660mm，整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm,； ·重量：190kg | |
| 序號 | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | （可選）套 | - |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | - |
| 4 | 分子泵 | 1臺 | - |
| 5 | 冷水機 | 1臺 | - |
| 6 | 聚酯PU管（?6mm） | 4m | - |
| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金,、銦、銀,、鉑等各種靶材 | （可選） |  - |
| 2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | （可選） | - |
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