目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),，且可使用的材料范圍廣,，是一款實(shí)驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1,、配置兩個靶槍,，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜,。
2,、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛,。
3,、體積小，操作簡便,。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD-1000 |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用,。 |
主要參數(shù) | 1、輸入電源：220V/50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm |
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