目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,,可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜,、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,,可選擇強磁靶或弱磁靶,,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比,,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備,。
1、可選一個靶槍,,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜,。
2、可制備多種薄膜,,應(yīng)用廣泛,。
3、體積小,,操作簡便,。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-1HD |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用,。 |
主要參數(shù) | 1,、電源電壓:220V 50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1,、主機尺寸:500mm×560mm×660mm |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1,、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選) |
可選配件 | 1,、金、銦,、銀,、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜,。 |
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