目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600G高真空磁控濺射儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍,，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比,，其不僅應(yīng)用廣泛,，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等,。
可選配多個靶槍,，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）,。
可制備多種薄膜,，應(yīng)用廣泛。
體積小,，操作簡便,。
整機模塊化設(shè)計,，真空腔室、真空泵組,、控制電源分體式設(shè)計,，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,，可以一個電源控制多個靶槍,，也可多個電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600G高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | VTC-600G | |
| 主要參數(shù) | 1,、結(jié)構(gòu)：臺式前開門結(jié)構(gòu),，后置抽氣系統(tǒng)。 2,、極限真空：6.0X10-5Pa,。 3、漏率：1h≤0.5Pa,。 4,、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 5,、真空泵組：機械泵+分子泵,。 6、樣品臺:φ140,、室溫-500℃,、精度±1℃ （可根據(jù)實際需要提升溫度） 自轉(zhuǎn)5rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)。 可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,， 以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜,。 7、加氣系統(tǒng)：質(zhì)量流量計2路,。 （氬氣/氮氣各一路） 8,、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 9、靶頭數(shù)量：3個（互成120°）,。 10,、 靶槍冷卻方式：水冷 11、靶材尺寸：φ2″,，厚度0.1-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 12,、產(chǎn)品規(guī)格：
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| 序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 樣品臺擋板 | （可選） |  |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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