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VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導電薄膜、合金薄膜,、半導體薄膜,、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜,、光學薄膜,、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等,。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜,，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜,，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備,。
1,、配置三個靶槍，兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜,。
2、可制備多種薄膜,，應用廣泛,。
3、體積小,，操作簡便,。