目錄:沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,地礦,電子 |
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng),,使得靶材原子或分子從固體表面射出,,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種,。設(shè)計而成的簡單,、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,,適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備,,以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用,,且設(shè)備體積小巧,,節(jié)約實驗室空間;操作簡單,,適合初學(xué)人員使用,。
1、設(shè)有真空表,、濺射電流表,,可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。
2,、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器,、微型真空氣閥,控制真空室壓強(qiáng),、電離電流及選擇所需要的電離氣體,,以獲得最佳鍍膜效果。
3,、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計,,可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。
4,、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用,。
5、根據(jù)電場中氣體電離特性,,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,,使濺射鍍層更均勻純凈。
6,、濺射頭采用Peltier制冷技術(shù),,可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層,。
7,、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。
產(chǎn)品名稱 | GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | GSL-1100X-SPC-16M | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,,溫度25℃±15℃,,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1,、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2,、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3,、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),,需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥) 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,,承重50kg以上 5,、通風(fēng)裝置:不需要 | |
主要參數(shù) | 1、靶:?50mm 2,、真空室:?160mm×120mm 3,、真空度:≤4×10-2mbar 4、max電流:50mA(可選100mA) 5,、可設(shè)定極*:9999s 6,、微型真空氣閥:連接?3mm軟管 7、極限電壓:1600V DC 8,、機(jī)械泵:2L/s | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:360mm×300mm×380mm,。 | |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、金靶材1個 2,、進(jìn)氣針閥1個 3,、保險絲2個 | |
可選配件 | 金、銦,、銀,、鉑等各種靶材 |
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