日韩av大片在线观看欧美成人不卡|午夜先锋看片|中国女人18毛片水多|免费xx高潮喷水|国产大片美女av|丰满老熟妇好大bbbbbbbbbbb|人妻上司四区|japanese人妻少妇乱中文|少妇做爰喷水高潮受不了|美女人妻被颜射的视频,亚洲国产精品久久艾草一,俄罗斯6一一11萝裸体自慰,午夜三级理论在线观看无码

您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)

| 注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏該商鋪

15640436639

technology

首頁   >>   技術(shù)文章   >>   球形CeO2粉體的制備及其拋光性能的研究

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公...

立即詢價

您提交后,,專屬客服將第一時間為您服務(wù)

球形CeO2粉體的制備及其拋光性能的研究

閱讀:3325      發(fā)布時間:2016-2-26
分享:

胡小迎  劉福田

(濟南大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院)

摘要:以硝酸鈰,、尿素為原料,,檸檬酸為表面活性劑,首先采用水熱法制備出球形CeCO3OH前驅(qū)體再經(jīng)高溫焙燒得到球形CeO2粉體,。利用XRD,、FT-IR、SEM及拋光試驗對CeO2粉體性能進行表征,,結(jié)果表明:以檸檬酸為表面活性劑,,在180℃時水熱反應(yīng)24h,再經(jīng)800℃高溫焙燒,,所制備的CeO2粉體呈球形,,分散性好,粒度約為2μm,,且粒度分布均勻,,適合軟質(zhì)玻璃的精密拋光。

關(guān)鍵詞:CeO2粉體,;水熱法,;球形;拋光性能

       隨著高精密光學(xué)技術(shù)和大規(guī)模集成電路的發(fā)展,,各種光學(xué)元件[1]和硅基片[2]需要具有超光滑表面,,對表面粗糙度和波紋度的要求以達(dá)到納米級[3]?;瘜W(xué)機械拋光技術(shù)(CMP)是幾乎*的*的全局平坦化技術(shù)[4],,其應(yīng)用范圍逐漸擴大。CeO2拋光粉作為拋光粉使用,具有拋光效率高,、使用壽命長,、易于清洗等優(yōu)點[5]。普通CeO2拋光粉廣泛應(yīng)用于光學(xué)玻璃,、顯像管,、寶石、金屬制品拋光中,;而對于具有超光滑要求的拋光,,如光掩膜基板、液晶玻璃等,,則要求CeO2拋光粉具有純度高,、形貌規(guī)則、硬度適中,、粒度分布均勻等特點[6],。

       水熱法是以水溶液為反應(yīng)介質(zhì),在密閉高壓反應(yīng)釜內(nèi),,通過創(chuàng)造高溫,、高壓環(huán)境,使難溶或不溶物質(zhì)溶解-重結(jié)晶,。水熱法可以在較溫和的條件下,,制備出超細(xì)、低團聚,、高結(jié)晶度的粉體,且通過改變反應(yīng)條件可以控制粉體形貌[7],。

       本文采用水熱法,,以硝酸鈰、尿素為原料,,檸檬酸為表面活性劑,,制備球形CeO2粉體,通過對各影響因素的研究,,探索出球形CeO2粉體的制備方法,,并對CeO2粉體的拋光性能進行表征。

1 實驗

1.1 CeO2粉體的制備

       按照硝酸鈰,、尿素,、檸檬酸摩爾為1:5:3,取一定量的硝酸鈰和檸檬酸溶解于50mL去離子水中形成溶液A,,按照比例取適量尿素溶于30mL去離子水中形成溶液B,,待澄清后,將溶液B緩慢滴入溶液A中,繼續(xù)攪拌反應(yīng)30min,,轉(zhuǎn)入帶有聚四氟乙烯內(nèi)襯的高壓反應(yīng)釜中,,180℃下反應(yīng)24h,得到黃色沉淀物,,沉淀物用無水乙醇洗滌3次,,經(jīng)干燥后高溫焙燒得到淡黃色CeO2粉體。

1.2 測試與表征

       物相分析用D8-ADVANCE型X射線衍射儀,,以銅靶(λ=0.15418nm)為輻射源測定,;化學(xué)鍵分析用Nicolet380型紅外光譜儀測定;粉體形貌用QUANTA FEG250型場發(fā)射掃描電子顯微鏡測定,。

1.3 CeO2粉體拋光性能測試

       取一定質(zhì)量CeO2粉體分散在去離子水中,,加入適量懸浮分散劑形成拋光液。在Unipol1502型精密拋光機沈陽科晶)上,,對高硬度石英玻璃,、中硬度K9玻璃和低硬度ZF7玻璃進行拋光,測量拋光前后玻璃減少的量,,并計算拋光速率,。

2 結(jié)果與討論

2.1 產(chǎn)物相結(jié)構(gòu)與組成分析

       圖1是水熱溫度分別為160℃、180℃和200℃所制備的前驅(qū)體,,經(jīng)800℃焙燒制成CeO2粉體的XRD圖譜,。從圖1可以看出,未經(jīng)高溫焙燒的前驅(qū)體沒有明顯衍射峰,,結(jié)晶度較低,,對應(yīng)為六方晶系CeCO3OH(JCPDS NO.34-0198);高溫焙燒后的CeO2粉體,,衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)JCPDS卡片NO.34-0394相一致,,分別對應(yīng)立方螢石結(jié)構(gòu)氧化鈰的(111)、(200),、(220),、(311)晶面,且衍射峰強度較高,,峰寬較窄,,結(jié)晶度高。

 

圖1前驅(qū)體及CeO2粉體的XRD圖譜

       圖2中CeO2粉體的紅外光譜圖可以看出,,427cm-1附近出現(xiàn)Ce-O的伸縮振動峰,;3430cm-1和1620cm-1附近出現(xiàn)-OH基團中O-H的伸縮振動峰和彎曲振動峰;1080cm-1附近的吸收峰是空氣中CO2的C-O鍵的伸縮振動峰,。因此可知,,所得產(chǎn)物為CeO2

 

圖2 CeO2粉體的紅外光譜圖

2.2 CeO2形成機理

       采用尿素水解法制備CeO2粉體,在水熱條件下,,尿素水解生成NH4+和OCN-,;在中性或弱堿性條件下,OCN-繼續(xù)反應(yīng)生成CO32-和NH3,;隨反應(yīng)釜內(nèi)溫度和壓力的升高,,尿素水解速率增大,Ce3+與CO32-和OH-反應(yīng)生成CeCO3OH,;經(jīng)過高溫焙燒后,,CeCO3OH分解形成CeO2。反應(yīng)方程式如下:

CO(NH22→NH4++OCN-  (1)

OCN-+OH-+H2O→NH3+CO32-  (2)

Ce3++OH-+CO32-→CeCO3OH  (3)

4CeCO3OH+O2→4CeO2+2H2O+4CO2  (4)

2.3 產(chǎn)物SEM分析

        圖3為前驅(qū)體CeO2粉體的掃描電鏡照片,,可以看出,,前驅(qū)體堿式碳酸鈰和焙燒后形成的CeO2粉體均呈球形,表面光滑,,粒徑約2μm,,粒度分布均勻。

 

圖3產(chǎn)物的掃描電鏡照片(a:前驅(qū)體,;b:CeO2粉體)

2.4 表面活性劑種類對產(chǎn)物形貌的影響

        圖4為分別以十二烷基本磺酸鈉和檸檬酸鈉作表面活性劑時,,產(chǎn)物的掃描電鏡照片。

 

 

圖4不同表面活性劑時CeO2粉體的掃描電鏡照片

(a:十二烷基本磺酸鈉,;b:檸檬酸鈉)

       從圖4可以看出,,以十二烷基本磺酸鈉為表面活性劑時,制備的CeO2粉體呈立方塊狀,,粒徑約為0.8μm,,粒度分布均勻;檸檬酸鈉為表面活性劑,,制得的CeO2粉體呈紡錘形,,顆粒縱向長度約為1.8μm,。選擇不同表面活性劑對產(chǎn)物形貌的影響主要是由于表面活性劑在產(chǎn)物表面的選擇吸附。

2.5 產(chǎn)物拋光性能測試

       分別取一定質(zhì)量球形,、立方塊形和紡錘形CeO2粉體,,配制成固含量為10%的拋光液,對高石英玻璃,、K9玻璃和ZF7玻璃進行拋光,,記錄3次拋光速率的平均值,并在暗室內(nèi)用大功率鹵燈觀察玻璃表面光潔度情況,。拋光測試結(jié)果見表1,。

表1 CeO2粉體的拋光性能測試結(jié)果

 

球形CeO2

立方塊形CeO2

紡錘形CeO2

拋光速率

mg·min-1·cm-2

光潔度

拋光速率

mg·min-1·cm-2

光潔度

拋光速率

mg·min-1·cm-2

光潔度

石英玻璃

K9玻璃

ZF7玻璃

0.08

0.14

0.21

無劃痕

無劃痕

無劃痕

幾乎為0

0.009

0.03

無劃痕

輕微劃痕

有劃痕

0.02

0.09

0.13

無劃痕

有劃痕

有劃痕

       從表1中可以看出,按照玻璃硬度的不同,球形CeO2粉體對三種玻璃的切削力從依次為ZF7玻璃>K9玻璃>石英玻璃,,且拋光后玻璃表面無劃痕,。立方塊形CeO2粉體的切削力很小,原因是其粒度較小,,且顆粒棱角會對玻璃表面造成劃傷,。紡錘形CeO2粉體的切削力居中,但其紡錘形結(jié)構(gòu)會影響玻璃表面光潔度,。因此,,球形CeO2粉體適合低硬度玻璃的超精密拋光。

2.6 焙燒溫度對產(chǎn)物拋光性能影響

       圖5為不同焙燒溫度制備的球形CeO2粉體,,對ZF7玻璃的拋光速率曲線,,從圖中可以看出,未經(jīng)焙燒的前驅(qū)體拋光速率幾乎為零,,說明前驅(qū)體通過焙燒才能獲得一定硬度,。隨焙燒溫度升高,CeO2粉體拋光速增后減,,800℃zui大,,原因可能是,低溫時,,CeO2粉體晶化不*,,硬度較小,機械磨削作用低,;溫度過高時,,CeO2晶體表面活性降低,,不能與玻璃表面發(fā)生化學(xué)作用;只有當(dāng)溫度適宜時,CeO2粉體的表面活性和硬度才能達(dá)到*值,,表現(xiàn)出拋光速率zui高。

圖5焙燒溫度對產(chǎn)物拋光速率的影響

3 結(jié)論

      (1)以尿素為沉淀劑,,檸檬酸為表面活性劑,,在水熱條件下可以制備球形CeO2粉體,粒度約為2μm,,且粒度分布均勻,。

      (2)球形CeO2粉體對軟質(zhì)玻璃的拋光速率高,拋光后面光潔度高,,且當(dāng)焙燒溫度為800℃時,,拋光速率*。

 

參考文獻

[1] 李進,,何小彬,,辜子英,,等.光學(xué)玻璃拋光材料用超細(xì)CeO2前驅(qū)體的制備[J].稀有金屬與硬質(zhì)合金,2003,,31(3):1-4.

[2] PIETSCH G J,,CHABAL Y J,HIGASI G S.The atomic-scale removal mechanism during chemo-mechanical polishing of Si(100)and Si(111)[J].Surface Science,,1995,,331-333(A):395-401.

[3] 雷紅,雒建斌,,張朝輝.化學(xué)機械拋光技術(shù)的研究進展[J].上海大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版),,2003,9(6):494-501.

[4] 宋曉嵐,,李宇焜,,江楠,等.化學(xué)機械拋光技術(shù)研究進展[J].化工進展,,2008,,27(1):26-31.

[5] 李中軍,彭翠,,徐志高,,等.碳酸氫銨沉淀法制備CeO2拋光粉[J].稀土,2006,,27(1):37-39.

[6] 徐招弟,,周新木,李永繡,,等.水熱法制備超細(xì)粉體及在拋光粉上應(yīng)用前景[J].吉首大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版).2004,,25(2):21-24.

[7] WANG H C,LU C H.Synthesis of cerium hydroxycarbonate powders via a hydrothermal technique[J].Meterials Research Bulletin,,2002,,37:783-792.

會員登錄

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗證碼

收藏該商鋪

標(biāo)簽:
保存成功

(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)

常用:

提示

您的留言已提交成功,!我們將在第一時間回復(fù)您~
在線留言