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產品簡介
詳細介紹
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供,，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設計通常需要經常改變,。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),，具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度,，高分辨率的特點,。采用集成化設計，全自動控制,，可靠性高,，操作簡便。適用于各種實驗室桌面,。
應用領域
小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發(fā),，為微流控、SAW,、半導體,、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。
MicroWriter產品特點
Focus Lock自動對焦功能
| 直寫前預檢查
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標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye"按鈕,，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,，將自動將其移動到顯微鏡中心位置,。
| 光學輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層,，蝕刻層,，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm,，方便快捷,。
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| 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制,。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計,、基片對準和曝光的基本操作,。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。
| Clewin 掩模圖形設計軟件 + 可以讀取多種圖形設計文件 （DXF, CIF, GDSII, 等） + 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 + 書寫范圍只由基片尺寸決定
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0.4 μm特征線寬曝光結果
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直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
灰度直寫
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微結構/微器件/微電極制備
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