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當(dāng)前位置：北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司>> BaF2德國Hellma氟化鈣晶體CaF2光學(xué)材料
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號BaF2
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地北京市
更新時間：2023-05-30 10:06:06瀏覽次數(shù)：535次
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德國Hellma氟化鈣晶體CaF2光學(xué)材料
Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料,。
CaF2 是投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料,。CaF2 獨(dú)*的光學(xué)特性可實(shí)現(xiàn)各種高級應(yīng)用。
技術(shù)優(yōu)勢：
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨(dú)*的光學(xué)特性：
從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm,、193nm,、248nm）具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達(dá)420mm
應(yīng)用領(lǐng)域：
紅外光學(xué)元件
用于天文儀器的光學(xué)元件
天基光學(xué)器件
顯微鏡光學(xué)元件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗口
準(zhǔn)分子激光光學(xué)
微光刻光學(xué)
沈陽漢達(dá)森YYDS曹
Hellma Materials和CVD陶瓷是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的領(lǐng)*制造商，包括微光刻,、光學(xué),、激光技術(shù)和輻射檢測。
類型：
氟化鈣晶體
氟化鋇晶體
激光晶體
閃爍晶體
CVD Zinc Sulfide® and Cleartran®
CVD Zinc Selenide®
氟化鈣晶體具有以下特點(diǎn)：
具有良好的透明性：氟化鈣晶體在紫外至紅外波段均有較好的透明性,，是一種優(yōu)秀的光學(xué)材料,。
具有高的折射率：氟化鈣晶體的折射率較高，約為1.4,，適用于制作光學(xué)透鏡等光學(xué)元件,。
具有較高的熱穩(wěn)定性：氟化鈣晶體的熱膨脹系數(shù)較小，熱穩(wěn)定性較高,，適合在高溫環(huán)境下使用,。
具有較高的化學(xué)穩(wěn)定性：氟化鈣晶體化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不易被酸,、堿等化學(xué)物質(zhì)侵蝕,。
具有較高的機(jī)械強(qiáng)度：氟化鈣晶體硬度較高,，具有較好的機(jī)械強(qiáng)度，不易破裂或變形,。
德國Hellma氟化鈣晶體CaF2光學(xué)材料
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