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冠層分析儀在實際應用中的作用
閱讀：363 發(fā)布時間：2023-4-7
為了研究植物生長,、產量和品質與光能利用的關系,，需要調查植物冠層中的光能資源,，測量植物冠層對光的截獲量,。 在不成熟的過去,，研究人員很難對技術進行測量和分析,，這往往需要大量的時間和精力。 如今,，隨著科學技術的發(fā)展,，冠層分析儀已經被研究人員很好的使用。 從實際應用來看,，該儀器仍然可以發(fā)揮很大的作用,。
首先，我們來說說直接測量和間接測量是如何進行的,。 直接測量是測量所有葉片的葉面積,，然后計算LAI,。因為要測量的葉片都要剪掉，所以大部分都是破壞性測量,，或者至少會干擾冠層和葉角的分布,，從而影響數(shù)據的質量。直接測量費時費力,。 間接測量是利用冠層結構與冠層內輻射和環(huán)境相互作用的耦合關系,，通過冠層分析儀測量植物冠層的相關數(shù)據，通過植物冠層的傳輸模型推斷LAI,。
冠層分析儀通過處理圖像數(shù)據文件,，如葉面積指數(shù)、光照間隙,、間隙分布等,，獲得冠層結構。 通過分析輻射數(shù)據的相關信息,，可以計算出冠層截獲的PAR和冠層以下的輻射水平,。 因此，與直接測量法相比,，利用冠層分析儀測量冠層數(shù)據可以避免直接測量法帶來的大規(guī)模破壞植被的缺點,。而且使用儀器進行測量操作具有方便、快捷,、不受時間限制,、獲取數(shù)據量大等優(yōu)點，非常適合現(xiàn)代農業(yè)科研,。目前,，冠層分析儀廣泛應用于農業(yè)、園藝,、林業(yè)的栽培,、育種和植物群體比較與發(fā)展的研究和教學中，并在實際應用中發(fā)揮了作用,。