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浙江大學(xué)林時勝教授團(tuán)隊:石墨烯/GaAs肖特基接面,拓展光譜范圍的新突破

閱讀:1336      發(fā)布時間:2023-12-27
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【重點摘要】

這項研究由浙江大學(xué)林時勝教授團(tuán)隊等人發(fā)表,。

  • 制作了石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器

  • 添加銀納米顆粒以進(jìn)行等離子增強(qiáng)

  • 實現(xiàn)超高(210 mA/W),、寬頻(325-980 nm)的響應(yīng)度和探測度

  • 從納米粒子等離子體重疊載流子分離區(qū)域進(jìn)行增強(qiáng)

  • 可用于色彩檢測等應(yīng)用的可見光到近紅外的敏感度理想

  • 協(xié)同石墨烯/GaAs/等離子體整合實現(xiàn)性能

【研究背景】

石墨烯展現(xiàn)出優(yōu)異的寬頻光檢測光電特性,但基于石墨烯的光檢測器的響應(yīng)度和探測度受限,。將石墨烯與半導(dǎo)體作為異質(zhì)結(jié)構(gòu)整合可以增強(qiáng)性能,,但半導(dǎo)體的能隙限制使先前的展示僅適用于狹窄光譜范圍,不適用于對敏感色彩檢測要求較高的應(yīng)用,。GaAs是克服這些限制的理想候選者,,其直接的1.42電子伏特能隙和高遷移率使其能夠?qū)崿F(xiàn)從可見光到近紅外的高性能光檢測。此外,,石墨烯/GaAs界面上光產(chǎn)生載流子的超快分離為從局部表面等離子共振中獲得顯著增強(qiáng)提供了潛在可能性,。本研究實現(xiàn)了一種等離子增強(qiáng)的石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器,其響應(yīng)度,、探測度和325-980 nm范圍內(nèi)的寬頻響應(yīng)度,,呈現(xiàn)了現(xiàn)有光檢測器無法匹敵的靈敏度。

【研究結(jié)果】

光響應(yīng)度和探測度

  • 在405nm波長下,,銀納米顆粒使光響應(yīng)度提高了38%,,達(dá)到210mA/W,探測度提高了202%,,達(dá)到2.98×10^13 Jones,。

  • 這種探測度超過先前基于石墨烯的光檢測器2至3個數(shù)量級。

  • 提升效果覆蓋了從325nm到980nm的整個測試光譜范圍,。

提升的光譜依賴性

  • 在較短波長處表現(xiàn)出更大的增強(qiáng),,與銀納米顆粒等離子共振峰相匹配。

  • 顯示提升來自表面等離子共振,。

載流子壽命和EQE分析

  • 更快的瞬態(tài)PL衰減(1.65ns對比1.97ns)表明銀納米顆粒將光吸收局部化在GaAs表面附近,。

  • 從300至1000nm的增加EQE與等離子增強(qiáng)相符。

  • 以上確認(rèn)了表面等離子體能夠在異質(zhì)界面上更有效地分離載流子,。

光學(xué)模擬

  • 模擬顯示銀納米顆粒周圍和延伸至GaAs的近場集中,。

  • 與石墨烯/GaAs肖特基接面和GaAs光吸收深度重疊。

  • 解釋了這種異質(zhì)系統(tǒng)中極為寬頻提升的來源,。

【研究方法】

  • 作者將CVD生長的石墨烯轉(zhuǎn)移到n型GaAs基板上,,制作了石墨烯/GaAs異質(zhì)結(jié)構(gòu)光檢測器,。

  • 使用自旋涂布技術(shù)將銀納米顆粒(直徑100nm)涂覆到石墨烯表面,利用表面等離子共振提升器件性能,。

  • 在不同照射波長(325-980nm)下,,以自供電模式測量了光電流、響應(yīng)度和探測度,。

  • 進(jìn)行了瞬態(tài)PL衰減和EQE測量,,以研究性能提升機(jī)制。

【結(jié)論】

石墨烯與GaAs的協(xié)同作用通過石墨烯/GaAs接面耗盡區(qū)域,、表面等離子近場和GaAs吸收深度的復(fù)雜重疊,,帶來了顯著的寬頻增強(qiáng)。這種增強(qiáng)機(jī)制特別適用于石墨烯/直接帶隙半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu),,例如石墨烯/GaAs,。由此產(chǎn)生的增強(qiáng)效應(yīng)提高了響應(yīng)度、探測度和寬廣的光譜范圍,,使其成為一款出色的光檢測器,,特別適用于需要敏感彩色檢測的應(yīng)用,比如CCD成像,。

隨著5G和移動技術(shù)的進(jìn)步推動先進(jìn)光電感應(yīng)器件融入日常生活,,挑戰(zhàn)在于感光區(qū)域的縮小。然而,,這種趨勢要求這些先進(jìn)光檢測器具有更出色的光感應(yīng)性能,,增加了準(zhǔn)確測量量子效率的難度。傳統(tǒng)方法在波長分散引起的焦點位移方面存在困難,,使得在微米級活躍區(qū)域內(nèi)精確捕捉全光譜量子效率曲線變得困難,。

作為回應(yīng),Enlitech APD-QE利用空間光均勻化技術(shù)和ASTM“照射模式",,適用于測量LiDAR感應(yīng)器,、TFT影像感應(yīng)器、InGaAs光電二極管等多種先進(jìn)光檢測器的量子效率和關(guān)鍵參數(shù),。傳統(tǒng)量子效率系統(tǒng)在準(zhǔn)確測量小面積光檢測器方面存在限制,,因為光子聚焦和克服光學(xué)分散和畸變所造成的測量誤差難度,影響了EQE光譜曲線,。APD-QE 能克服這些挑戰(zhàn),,成為光偵測器的工具!


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