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探測(cè)器特點(diǎn)-前照和背照

光譜數(shù)據(jù)，這一交織著波長(zhǎng)與光強(qiáng)雙重特性的豐富信息載體,，正逐步滲透并深刻影響著工業(yè)制造,、醫(yī)療診斷、現(xiàn)代農(nóng)業(yè)等多個(gè)前沿領(lǐng)域,，成為驅(qū)動(dòng)科技創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)升級(jí)的關(guān)鍵引擎,。在光譜探測(cè)技術(shù)的舞臺(tái)上，探測(cè)器作為關(guān)鍵角色,，依據(jù)其感光元件布局的差異,，劃分為前照式與背照式。前照探測(cè)器,，以其結(jié)構(gòu)經(jīng)典,、性能穩(wěn)定著稱，在多種應(yīng)用場(chǎng)景中展現(xiàn)出較好的適應(yīng)性；而背照探測(cè)器,，則憑借光線從背面直接照射至感光層的創(chuàng)新設(shè)計(jì),，顯著提升了量子效率和信噪比，為追求更高靈敏度與更低噪聲的探測(cè)任務(wù)提供了強(qiáng)有力的支持,。

1.前照與背照探測(cè)器區(qū)別

前照式探測(cè)器：

光從晶圓正面入射,，電路層在上，受光面在下,，而電路層對(duì)光有一定的遮擋,。如上圖所示：入射光需要穿過(guò)沉積在探測(cè)器表面上的電路層，光子才能被硅吸收并轉(zhuǎn)化為電荷信號(hào),。電路層結(jié)構(gòu)由柵極氧化膜,、多晶硅電極和BPSG(表面保護(hù)膜)等構(gòu)成，由于此電路層的遮擋,，入射光到達(dá)半導(dǎo)體區(qū)域之前,，被吸收、反射,、散射而損失了部分能量,，不能全部到達(dá)受光面。因此,，前照探測(cè)器的量子效率一般在50%~60%之間,，對(duì)于弱光的檢測(cè)不敏感。

背照式探測(cè)器：

在背照式光電探測(cè)器中,，電路仍然做在晶圓的正面,，但是光線從晶圓的背面入射，直接照射到感光元件（如光電二極管）上,。這種設(shè)計(jì)避免了光線在到達(dá)感光層之前穿過(guò)多層結(jié)構(gòu)的需要,，不僅減少了光損失，改善了光譜響應(yīng),，理論上像素的占空比還可以提升較高,，實(shí)際上經(jīng)一些測(cè)試數(shù)據(jù)表明背照探測(cè)器在一定波長(zhǎng)范圍的量子效率高達(dá)95%（如下圖所示）。

背照探測(cè)器一般為薄背型,，由于背照探測(cè)器的制造必須使光輸入表面（背面）附近產(chǎn)生的電荷信號(hào)收集到前表面附近形成的電位勢(shì)阱中,，為了實(shí)現(xiàn)這一功能，基材必須經(jīng)歷減薄和積累過(guò)程,。通常情況下,，襯底被減薄至約20um的厚度，這樣當(dāng)產(chǎn)生的電荷向電位勢(shì)阱擴(kuò)散時(shí)分辨率就不會(huì)受到影響了,，積累過(guò)程確保從光輸入表面（背面）到前面形成內(nèi)部電場(chǎng),，防止在光輸入表面上形成的界面重新組合,，薄背探測(cè)器就可以高效的探測(cè)這些光子。然而背照式由于減薄襯底,，致使長(zhǎng)波長(zhǎng)的光通過(guò)光敏區(qū)后在氧化硅表面發(fā)生反射,，與光敏區(qū)表面反射的光相干涉產(chǎn)生etaloning條紋效應(yīng)（如下圖所示），疊加在采集光譜上,，影響信號(hào)識(shí)別

2.前照與背照探測(cè)器優(yōu)缺點(diǎn)

?                      量子效率：由于背照式探測(cè)器光線能夠直接照射到感光層上,，避免了多層結(jié)構(gòu)的遮擋和干擾，因此量子效率顯著提高,，通常比前照式高出至少30%以上,。

?                      弱光敏感性：背照式探測(cè)器對(duì)弱光非常敏感，能夠在低照度環(huán)境下獲得更好的成像質(zhì)量,。

?                      信噪比：背照式對(duì)弱光的感應(yīng)靈敏,，往往具有高信噪比的特點(diǎn)，適合弱光及需要快速響應(yīng)的應(yīng)用場(chǎng)景,。

?                      制造成本：背照式成本相對(duì)較高，因?yàn)樾枰捎锰厥夤に噷⒏泄庠糜诰A背面,。

?                      光譜響應(yīng)范圍：前照式覆蓋可見(jiàn)光及部分近紅外光波段,；而背照式在紫外區(qū)、可見(jiàn)區(qū)及近紅外區(qū)具有較高的量子效率和信噪比,。 

?                      Etaloning條紋：前照式無(wú)干涉條紋現(xiàn)象影響,，適合應(yīng)用在疊加熒光影響且信號(hào)有一定強(qiáng)度的情況；背照式采集長(zhǎng)波長(zhǎng)的光時(shí)會(huì)產(chǎn)生條紋效應(yīng),，疊加在光譜上,，影響信號(hào)識(shí)別。

3.產(chǎn)品推薦

對(duì)于一些拉曼應(yīng)用的用戶,，下表進(jìn)行了一些光譜儀探測(cè)器類型推薦選擇√：

北京鑒知提供基于前照與背照式探測(cè)器的光纖光譜儀，探測(cè)器類型可更換,，用戶可根據(jù)需要聯(lián)系銷售試用或采購(gòu)已有型號(hào)產(chǎn)品,，同時(shí)我們也接受定制需求，提供專業(yè)且快速的定制服務(wù),。

4.總結(jié)

前照式與背照式光電探測(cè)器在工作原理上的主要區(qū)別在于光線的入射路徑和感光元件的布局,。前照式探測(cè)器中光線需要穿過(guò)多層結(jié)構(gòu)才能到達(dá)感光層，導(dǎo)致光損失和量子效率降低,；而背照式探測(cè)器則直接將光線照射到感光層上,，減少了光損失并提高了量子效率和弱光檢測(cè)能力。這些差異使得背照式光電探測(cè)器在高性能成像和光譜分析等領(lǐng)域具有更廣泛的應(yīng)用前景,，但同時(shí)在長(zhǎng)波段采集時(shí)會(huì)出現(xiàn)etaloning現(xiàn)象,，我們會(huì)根據(jù)用戶應(yīng)用的實(shí)際情況做出專業(yè)的選擇判斷,，為你提供適合的光譜設(shè)備。