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離子源又稱離子槍,，用以產(chǎn)生離子束流,。其基本工作原理是將待電離氣體注入電離室，然后使氣態(tài)原子與電子發(fā)生碰撞而被電離,，哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L  從而得到等離子體,。等離子體是多種離子的集合體，其中有帶電粒子和不帶電粒子,，在宏觀上呈電中性,。采用一個相對于等離子體為負電位的電極〔吸極)，將離子由等離子體中引出而形成離子束流,，而后使其加速射向工件或靶材,。對離子源的要求，首先是離子束有較大的有效工作區(qū),，哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 以滿足實際加工的需要。其次,，離子源的中性損失要小,。因為中性損失是指通向離子源的中性氣體未經(jīng)電離而損失的那部分流量，它將直接給真空系統(tǒng)增加負擔,。此外,，還要求離子源的放電損失小，結構簡單,，運行可靠等,。

    根據(jù)離子束產(chǎn)生的方式和用途不同哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L ，離子源有很多形式,。常用的有考夫曼型離子源和雙等離子管型離子源,。

三、離子束加工的應用

    目前,，用于改變零件尺寸和表物理力學性能哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 的離子束加工技術主要有以下四種,，即利用離子撞擊和濺射效應的離子束刻蝕、離子濺射鍍膜和離子鍍,，以及利用離子注入效應的離子注入,。