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氧化硅拋光液的性能特點,，一看便知
閱讀：936 發(fā)布時間：2021-7-8
氧化硅拋光液是針對不同研磨材料的特性進(jìn)行*的配方設(shè)計，拋光過程中,，pH值基本保持不變,，從而保證拋光速率的穩(wěn)定，并節(jié)約拋光時間,。廣泛用于多種材料納米級的化學(xué)機(jī)械拋光,。如：藍(lán)寶石材料、硅片,、不銹鋼,、鋁鎂合金、化合物晶體等的拋光加工,。
由于納米二氧化硅成本相對較低,，且具有良好的分散性、機(jī)械磨損性,，高度度、高附著力,、成膜性好,、高滲透、高耐候性,、高耐磨性等特點,，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料。因而常被用于金屬,、藍(lán)寶石,、單晶硅、微晶玻璃,、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光,。
氧化硅拋光液的性能特點都有哪些呢？
1,、均勻的球形SiO2粒子,；可循環(huán)使用多次；
2,、去除率高,，拋光性能穩(wěn)定；可選用中性或弱酸性拋光液對應(yīng)。
3,、精密的拋光質(zhì)量，Ra＜0.2nm,、TTV＜3μm,；
4、有效減少拋光后的表面劃傷,，降低拋光后的表面粗糙度,。
5、適用于35℃以下的低溫拋光工藝,；
6,、高達(dá)到高平坦化研磨加工。
7,、該拋光液由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成,，通過高科技術(shù)分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液,。
8,、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子,，不會對加工件造成物理損傷,，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的
9,、高純度,，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高,。
氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。本產(chǎn)品可用于硅晶圓,、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋,，具有拋光速率高，拋光后易清洗,，表面粗糙度低,，能夠得到總厚偏差（TTV）極小的質(zhì)量表面,。