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金剛石拋光液的科學(xué)方法,，再不收藏就晚了
閱讀：2086 發(fā)布時間：2021-6-1
金剛石拋光液包括聚晶,、單晶和納米3種不同類型的拋光液。它是由優(yōu)良的金剛石微粉,、復(fù)合分散劑和分散介質(zhì)組成,，配方多樣化，對應(yīng)不同的研拋過程和工件,，適用性強,。產(chǎn)品分散性好、粒度均勻,、規(guī)格齊全,、質(zhì)量穩(wěn)定，廣泛用于硬質(zhì)材料的研磨和拋光,。
本產(chǎn)品是利用聚晶金剛石的特性,，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產(chǎn)生劃傷。主要用于蘭寶石襯底、光學(xué)晶體,、硬質(zhì)玻璃和晶體,、超硬陶瓷和合金、磁頭,、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光,。
金剛石拋光液的正確使用方法是什么呢,？
1、將水基納米金剛石用于硅片拋光,。用海藻酸鈉,、羧甲基纖維素鈉、活性劑以及去離子水配制拋光液,。對超分散納米金剛石拋光硅片進行了研討,，并對干法拋光和拋光波濕法拋光進行了比照。干法拋光液使硅片粗糙度Ra從107nrn降到4nm,。運用水基納米拋光液濕法拋光,，拋光效率更高，并且硅片的粗糙度更小,，到達4nrn,。
2、一種水基納米拋光液經(jīng)過去離子水中加入納米金剛石,、改性劑,、分散劑、超分散劑,、pH調(diào)理劑,、潤濕劑、具有化學(xué)作用的添加劑經(jīng)過超聲攪拌將納米金剛石分散成20~100nm的小體,，制成拋光液,。用于各種光電子晶體、計算機硬盤基片,、光學(xué)元器件及銅銜接的半導(dǎo)體集成電路等的超精細拋光,。用于硅片拋光，外表粗糙度達0.214nm,。
3,、一種用于存儲器硬盤磁頭反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三個碳的烷羥礦物油,、十五個碳的油性劑,、金剛石單晶微粉、抗氧化防腐劑、非離子活性劑,、消泡劑和抗靜電劑,，將該拋光劑用于磁頭反面拋光。研磨后外表劃痕,、外表粗糙度是0.3~0.4nm,。
4、納米拋光液及其制造法的創(chuàng)造以輕質(zhì)白油為介質(zhì),，參加非離子活性劑,、抗靜電劑、凈洗劑以及pH調(diào)理劑制備了波動性較好的納米拋光液,。除了用于計算機磁頭之外,，還可以用于光學(xué)器件和陶瓷等高精度研磨和拋光之用。
5,、對中等粒度納米金剛石拋光液用于磁頭拋光工藝進行了研討,。納米金剛石顆粒越細，拋光粗糙度越小,、但是二者并不構(gòu)成復(fù)雜的線性關(guān)系,。拋光液的分散波動性很大水平上影響了外表劃痕。拋光液的波動分散是很重要的,。制備一種水性納米拋光液,，經(jīng)過三乙醇胺調(diào)整pH值后，用來拋光氧化鋁工件,，這種拋光液使得被加工工件外表更容易清洗,。