高純鎳帶的制造工藝:根據(jù)鎳的相互轉(zhuǎn)變趨勢(shì),，用分段還原法在熔煉前固相區(qū),，將鎳中非常有害的雜質(zhì)硫,、磷減少,，從而用造渣法與真空電子來(lái)精煉提純,，真空度達(dá)到3毛,。運(yùn)用世jie上先jin的對(duì)鎳板預(yù)處理后直接進(jìn)行軋制的鎳板鍛軋工藝，與之前的鎳絲加工技術(shù)相比,，其優(yōu)勢(shì)不言自明,。第yi，減少了傳統(tǒng)技藝中的熔煉,、刨面,、熱鍛、熱軋等工序,，加快了制作速度,，使得加工時(shí)間縮短。其次工藝上避免了在熔煉過(guò)程中添加輔料造成的金屬純度下降,、內(nèi)阻增大和塑性差等問(wèn)題,。本工藝在不改變?cè)娊怄嚱饘侔宓幕瘜W(xué)成分及純度的情況下，能制備出高純度的鎳線材 ,從而保證了鎳絲的高純度、高導(dǎo)電性,、（內(nèi)阻比傳統(tǒng)工藝生產(chǎn)的線材低7%以上）和高韌性,、產(chǎn)品合格率高，產(chǎn)品質(zhì)量?jī)?yōu)yue,。我們公司采用了目前國(guó)際上先jin的鎳板帶鍛軋技術(shù),，該工藝直接采用高純度的電解鎳原料進(jìn)行壓延制造鎳板帶,克服了傳統(tǒng)制造帶來(lái)的降低鎳板帶純度導(dǎo)致鎳板帶內(nèi)阻增加的缺陷,同時(shí)還克服現(xiàn)有制造存在的能耗高,生產(chǎn)效率低,設(shè)備投資大的缺陷,工藝先jin性以及優(yōu)勢(shì)如下,保證了鎳板帶的高純度和低內(nèi)阻本工藝直接采用脫氣并材料組織致密化的高純度鎳板帶原材料進(jìn)行軋制省去了傳統(tǒng)工藝中的熔煉、刨面,、酸洗工序及其設(shè)備避免在熔煉過(guò)程中添加輔料造成的鎳中間品純度下降內(nèi)阻增大的缺陷,。

鎳帶對(duì)美國(guó)牌號(hào)：N4，N6 對(duì)應(yīng)的是ASME II 中的Ni201和Ni200, 即低碳純鎳和普通純鎳（即N4 ,，Ni201,， N6，Ni200）,。

鎳帶執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：N4/N6純鎳帶生產(chǎn)執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T2072-2007

鎳帶狀態(tài)（維氏硬度）：硬態(tài)（Y），半硬（Y2）,1,，4硬（Y4）,，軟態(tài)（M）。

鎳帶規(guī)格：寬帶：2~330mm 厚度：0.05~1mm 長(zhǎng)度 gt;=3000mm

鎳帶的包裝,、標(biāo)志,、運(yùn)輸和儲(chǔ)存按GB88888。

鎳帶純度：99.95%以上

鎳帶特性：具有良好的光澤,、延展性,、可焊性

N4，N6純鎳帶的區(qū)別：N4,，N6的區(qū)別是在于C的含量即: 分別低碳純鎳和普通純鎳

N4,，N6 對(duì)應(yīng)的是ASME II 中的Ni201和Ni200, 即低碳純鎳和普通純鎳

（即N4 /Ni201， N6/Ni200）

N4 Ni%=99.9%, C%=0.01%Max,

N6 Ni%=99.5%-99.6% C%=0.10%Max

純鎳的性能

純鎳特別能耐堿的腐蝕,不論在高溫或熔融的堿中都比較穩(wěn)定,，所以主要用于制堿工業(yè),。在常溫下鎳在海水和鹽類溶液及有機(jī)介質(zhì)（如脂肪酸、酚,、醇等）中極為穩(wěn)定,。不耐無(wú)jisuan腐蝕，在cu酸和yi酸中也不穩(wěn)定,。

二．按照GB2054-2005規(guī)定,，N4和N6的區(qū)別在于：

1、化學(xué)成分,，N4 C含量小于0.02% N6 C含量小于0.15%,，其余元素含量相同；

2、力學(xué)性能,，在M態(tài),，N4 Rm≥350MPa，N6 Rm≥380MPa

備注：N4和N6如上所示,，主要是C含量的不同,，N4稱為低碳純鎳，其余元素含量相同,，由于N4的低碳性,，適于一些特定情況下使用，所以好與客戶溝通下使用環(huán)境或用途,，以避免不必要的麻煩,。

純鎳帶：含鎳量在99.95%以上，純鎳擁有優(yōu)良的機(jī)械特性和在多種不同環(huán)境中均有

較高的抗蝕功能,，還擁有磁致伸縮性及磁性,、高傳熱性、高導(dǎo)電性,、低氣體量及低蒸氣壓力等特點(diǎn),。具有良好的點(diǎn)焊性能，拉伸張力高,，操作方便．電阻率低（筆記本電池組組合）可通過(guò)50A以上電流,，是動(dòng)力電池組組合本產(chǎn)品主要用于制造鎳氫電池，鋰電池,，組合電池與電動(dòng)工具,，通訊信息，特?zé)舻刃袠I(yè),。