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低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術(shù)參數(shù)：

低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋

低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域：

1.材料領(lǐng)域：電鏡,、X射線衍射,、X熒光、真空濺射電鍍,、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕,、各種半導(dǎo)體設(shè)備,、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng),、原子沉積系統(tǒng)等,。

2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場,、各種分子泵,、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域,。使用的各種需水冷設(shè)備,。

3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀,、原子吸收,、ICP-MS 、ICP,、核磁共振,、CCD、生物發(fā)酵罐,、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等,。

4. 對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分,、激光標(biāo)志裝置,、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等,。

5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振,、直線加速器、CT,、低磁場核磁共振,、X光機(jī)、降溫毯等,。

6.對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載,、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置,、噴涂裝置,、離子鍍裝置、蝕刻裝置,、單晶片處理裝置,、切片機(jī)、包裝機(jī),、顯影劑的溫度管理,、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等,。

主要用途：

1,、對(duì)旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進(jìn)行低溫冷卻,。

2,、對(duì)雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

3,、對(duì)分光光度計(jì)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。

4,、對(duì)超聲波破碎的試料進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

5,、對(duì)激光加工機(jī)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。

6、對(duì)蝕刻裝置的電機(jī)部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。

7,、對(duì)電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。

8,、對(duì)工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。

9,、對(duì)電泳儀,、粘度計(jì)、醫(yī)用冷帽,、降溫毯進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。

10、對(duì)電鏡,、分子泵,、離子泵、擴(kuò)散泵進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制,。