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紫外光刻機(jī)的應(yīng)用在什么地方呢
閱讀：4906 發(fā)布時間：2022-11-3
該光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子,，例如LED生產(chǎn),。它經(jīng)過**設(shè)計,，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合,、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦,。而且該設(shè)備可通過選配升級套件,，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn)：高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻,，特征尺寸優(yōu)于0.5微米,、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確對準(zhǔn),、針對厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng),、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長間進(jìn)行快速切換等,。
采用三柔性支點(diǎn)實(shí)現(xiàn)高精度自動調(diào)平,；真空接觸自動曝光；樣片升降,、調(diào)平,、接觸、曝光,、復(fù)位實(shí)現(xiàn)自動化控制,；采用積木錯位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設(shè)定分離間隙,；采用雙目雙視場顯微鏡實(shí)現(xiàn)高對準(zhǔn)精度,。整機(jī)具有性能可靠、操作方便,、自動化程度高等特點(diǎn),。
光刻機(jī)通過一系列的光源能量、形狀控制手段,，將光束透射過畫著線路圖的掩模,，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,，不同光刻機(jī)的成像比例不同,，有5:1，也有4:1,。然后使用化學(xué)方法顯影,，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干,、涂底,、旋涂光刻膠,、軟烘,、對準(zhǔn)曝光,、后烘、顯影,、硬烘,、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠,、曝光,。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多,，也需要更精密的曝光控制過程,。
紫外光刻機(jī)工作原理
在加工芯片的過程中，光刻機(jī)通過一系列的光源能量,、形狀控制手段,，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,，然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖,。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干,、涂底、旋涂光刻膠,、軟烘,、對準(zhǔn)曝光、后烘,、顯影,、硬烘、激光刻蝕等工序,。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠,、曝光。越復(fù)雜的芯片,，線路圖的層數(shù)越多,，也需要更精密的曝光控制過程。