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今天咱們來(lái)講述下關(guān)于光刻機(jī)的性能特點(diǎn)
閱讀：2797 發(fā)布時(shí)間：2021-9-18
光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)等,，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上,。
光刻機(jī)該機(jī)可采用紫外光、深紫外光,、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源,，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明,。
該機(jī)可采用紫外光,、深紫外光、甚至更短波長(zhǎng)的極紫外光作為光源,，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,，采用積木 錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（可同時(shí)使用）,，拼接獲得大面積圖形,，曝光設(shè)定采用微機(jī)控制,，菜單界面友好，操作簡(jiǎn)便,。
光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍,，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度,、曝光方式,、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性,、生產(chǎn)效率等,。
分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源,、光刻系統(tǒng),、光刻膠和工藝等各方面的限制。
對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度,。
曝光方式分為接觸接近式,、投影式和直寫(xiě)式。
曝光光源波長(zhǎng)分為紫外,、深紫外和極紫外區(qū)域,，光源有汞燈，準(zhǔn)分子激光器等,。
分類
光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡(jiǎn)便性分為三種,，手動(dòng)、半自動(dòng),、全自動(dòng)
A 手動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,，是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn),，對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了,；
B 半自動(dòng)：指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧；
C 自動(dòng)： 指的是 從基板的上載下載,，曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制,，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。