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光刻機(jī)的分類描述
閱讀：2894 發(fā)布時間：2021-4-25
光刻機(jī)的分類描述
光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)等,，是制造芯片的核心裝備,。它采用類似照片沖印的技術(shù),，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上,。光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍,，分辨率、對準(zhǔn)精度,、曝光方式,、光源波長、光強(qiáng)均勻性,、生產(chǎn)效率等,。
光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動,、半自動,、全自動
1、手動：指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,，Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn)，對準(zhǔn)精度可想而知不高了,；
2,、半自動：指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧,；
3、自動： 指的是 從基板的上載下載,，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制,，自動光刻機(jī)主要是滿足工廠對于處理量的需要。