您好, 歡迎來到化工儀器網
| 成像方式 | 濾光片型 | 工作原理 | 濾光片型 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 面議 | 使用狀態(tài) | 機載 |
| 應用領域 | 綜合 |
產品簡介
詳細介紹
IMA™熒光高光譜成像系統(tǒng)介紹：
IMA™高光譜顯微鏡平臺可提供同樣高的光譜和空間分辨率,。將這個模塊化系統(tǒng)配置為快速掃描VIS，NIR和/或SWIR光譜,，可同時繪制光致發(fā)光,，電致發(fā)光，熒光,，反射光和透射光的組合,。每個IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡；這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統(tǒng)更快地測量百萬像素超立方體,。
IMA™為您打開了大門
執(zhí)行復雜的材料分析,，例如太陽能電池表征和半導體質量控制（例如：鈣鈦礦，GaAs,，SiC,，CIS，CIGS等）,。
在復雜的環(huán)境（包括活細胞和組織）中研究IR標記,。以在第二生物窗口中發(fā)射的IR熒光團的光譜異質性為例。
檢索暗場圖像并獲得透明和未染色樣品（例如聚合物,，晶體或活細胞）的對比度,。
IMA™熒光高光譜成像系統(tǒng)特點：
- 快速全局映射（非掃描）
- 高空間和光譜分辨率
- 完整的系統(tǒng)（源，顯微鏡,，相機,，濾鏡，軟件)
- 無損分析
- 可定制
- 可見光范圍從400到1000 nm,，SWIR范圍從900 nm到1700 nm
技術指標：
| 光譜范圍 | VIS-SWIR型號 | |
|---|---|---|
可見光 | 短波 | |
| 光譜分辨率 | <2納米 | <4納米 |
| 相機 | CCD,，EMCCD，sCMOS | ZephIR 1.7 |
激發(fā)波長 | 405,、447,、532,、561、660,、730,、785或808 nm | |
| 顯微鏡 | 直立或倒立；科學級 | |
| 空間分辨率 | 亞微米 | |
| 大樣本大小 | 10厘米x 10厘米 | |
| X,，Y旅行范圍 | 76毫米x 52毫米 | |
| Z-階段分辨率 | 100納米 | |
| 照明 照明選項 | 透射,，透射，LED,，HG,，落射 熒光模塊，暗場模塊 | |
| 波長jue對精度 | 0.25nm | |
| 視頻模式 | 百萬像素相機用于樣品可視化 | |
| 數據處理 | 空間過濾,，統(tǒng)計工具,，頻譜提取，數據歸一化,，頻譜校準,，疊加，中心位置圖等,。 | |
| 超光譜數據格式 | HDF5,，FITS | |
| 單圖像數據格式 | HDF5，CSV,，JPG,，PNG，TIFF | |
| 軟件 | PHySpec™控制和分析（包括計算機） | |
| 尺寸圖 | ≅150厘米x 85厘米82厘米 | |
| 重量 | ≅80公斤 | |
