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　　實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā),，磁控濺射,，MBE 分子束外延，PLD 激光濺射沉積等很多種,。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜,。對(duì)于濺射類鍍膜,，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),，并且最終沉積在基片表面,，經(jīng)歷成膜過(guò)程,，最終形成薄膜,。
 

　　1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。
 

　　2.設(shè)備主要由真空室,、濺射靶槍,、濺射電源、加熱樣品臺(tái),、流量控制系統(tǒng),、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng),、氣路系統(tǒng),、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
 

　　3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),，操控方便,；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小,。
 

　　4.主要用途：
 

　　1. 開發(fā)納米級(jí)單層,、多層及復(fù)合膜層等。
 

　　2. 制備金屬膜,、合金膜,、半導(dǎo)體膜,、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀,、鋁,、 銅、鎳,、鉻,、鎳鉻合金、氧化鈦,、氮化鈦,、氮化鉻、ITO......
 

　　3. 兩靶單獨(dú)濺射,、依次濺射,、共同濺射。
 

　　5.應(yīng)用領(lǐng)域：
 

　　1. 高校,、科研院所的教學(xué),、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
 

　　2. 鈣鈦礦太陽(yáng)能電池,、OLED,、OPV 太陽(yáng)能電池等行業(yè)。