1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備,。
2.設(shè)備主要由真空室,、濺射靶槍,、濺射電源,、加熱樣品臺,、流量控制系統(tǒng),、真空獲得系統(tǒng),、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng),、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,,操控方便,;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,。
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備,。
2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍,、濺射電源,、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng),、真空獲得系統(tǒng),、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成,。
3.該設(shè)備主機與控制一體化設(shè)計,,操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,,占地面積小,。
4.主要用途:
1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等,。
2. 制備金屬膜,、合金膜、半導體膜,、陶瓷膜及介質(zhì)膜等,,例:銀、鋁,、 銅,、鎳、鉻,、鎳鉻合金,、氧化鈦、氮化鈦,、氮化鉻,、ITO......
3. 兩靶單獨濺射、依次濺射,、共同濺射,。
5.應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 高校、科研院所的教學,、科研實驗及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,。
2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED,、OPV 太陽能電池等行業(yè),。