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Eksma FEMTOLINE激光分束器-3
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,，800 nm，515 nm,，400 nm,，343 nm，266 nm,。激光損傷閾值：&amp;amp;amp;gt; 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖，典型值為800 nm,。

Eksma FEMTOLINE激光分束器-3

Eksma FEMTOLINE激光分束器-3

Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,，800 nm，515 nm,，400 nm,，343 nm，266 nm,。激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖,，典型值為800 nm,。

分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束,。

標(biāo)準(zhǔn)基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板，請(qǐng)從Precision Thin Round Windows中選擇。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué),，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學(xué)，工業(yè),，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,，UVFS,，Infrasil，Suprasil,，CaF2以及DKDP,，KDP，LBO,，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號(hào)

UVFS;?12,7x3mm, 400 nm

型號(hào)	材料	尺寸	波長	反射	透射	偏振	AOI
041-7820A	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
041-7820P	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
041-7820S	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
041-7830A	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
041-7830P	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
041-7830S	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
041-7850A	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
041-7850P	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
041-7850S	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
041-7870A	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
041-7870P	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
041-7870S	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
041-7880A	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
041-7880P	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
041-7880S	UVFS	?12.7 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°
042-7820A	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
042-7820P	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
042-7820S	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
042-7830A	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
042-7830P	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
042-7830S	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
042-7850A	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
042-7850P	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
042-7850S	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
042-7870A	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
042-7870P	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
042-7870S	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
042-7880A	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
042-7880P	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
042-7880S	UVFS	?25.4 x 3 mm	400 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°
045-7820A	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	20±3%	80±3%	Average	45°
045-7820P	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	20±3%	80±3%	P-pol	45°
045-7820S	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	20±3%	80±3%	S-pol	45°
045-7830A	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	30±3%	70±3%	Average	45°
045-7830P	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	30±3%	70±3%	P-pol	45°
045-7830S	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	30±3%	70±3%	S-pol	45°
045-7850A	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	50±3%	50±3%	Average	45°
045-7850P	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	50±3%	50±3%	P-pol	45°
045-7850S	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	50±3%	50±3%	S-pol	45°
045-7870A	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	70±3%	30±3%	Average	45°
045-7870P	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	70±3%	30±3%	P-pol	45°
045-7870S	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	70±3%	30±3%	S-pol	45°
045-7880A	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	80±3%	20±3%	Average	45°
045-7880P	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	80±3%	20±3%	P-pol	45°
045-7880S	UVFS	?50.8 x 8 mm	400 nm	80±3%	20±3%	S-pol	45°

基材

材料	UV級(jí)熔融石英
S1表面平整度	633 nm時(shí)為λ/ 10
S1表面質(zhì)量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面平整度	633 nm時(shí)為λ/ 10
S2表面質(zhì)量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25
平行性	30弧秒
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術(shù)	電子束多層電介質(zhì)
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A,。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
入射角	45±3°
背面防反射鍍膜	R<0.5％
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2,，50 fsec脈沖，典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商,。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué),，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械,，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學(xué),，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué),，工業(yè),，醫(yī)學(xué)，美學(xué),，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí),。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備,。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒,。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證,。

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