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Eksma 增強型鍍銀反射鏡-4

Eksma 增強型鍍銀反射鏡-4

增強型鍍銀反射鏡設計用于飛秒激光,。在600-1100 nm波長范圍內(nèi)反射率R> 98.5％，在700-900 nm處反射率R> 99％,。

產(chǎn)品介紹

增強型鍍銀反射鏡專為飛秒激光而設計,。這些反射鏡在600 nm至1100 nm的波長范圍內(nèi)具有高反射率R> 98.5％，在700-900 nm時R> 99％,。反射鏡對入射角相對不敏感,，可用于AOI在0°至45°范圍內(nèi)的應用。飛秒脈沖的激光誘導損傷閾值（LIDT）在800nm,，100 Hz,，100 fs時為0.25 J / cm2,。

鏡像具有低群延遲分散（GDD）<| 5 fs2 | 在寬帶區(qū)域。

我們提供半徑為-50 mm至-10000 mm或+50 mm至+5000 mm的圓形,，方形,，平面或球形標準鏡。標準基材由N-BK7玻璃或UV熔融石英制成,，尺寸范圍從?12.7mm（0.5“）到?101.6mm（4"）,。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商,。 我們的激光組件可在科學,，工業(yè)，醫(yī)學,，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍,。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械,，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備,。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO，KDP,，DKDP,，KTP，AgGaSe2,，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,，UVFS，Infrasil,，Suprasil,，CaF2以及DKDP，KDP,，LBO,，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面,。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設備,。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是,，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。

產(chǎn)品型號

增強型鍍銀平凸球面反射鏡

直徑：25.4 + 0.00 / -0.13mm中心厚度（CT）：6.0±0.2mm

增強型鍍銀平凸球面反射鏡

直徑：50.8 + 0.00 / -0.13mm中心厚度（CT）：10.0±0.2mm

S1 *球面鏡的表面是彎曲的

EKSMA OPTICS是激光,，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,，工業(yè),，醫(yī)學，美學,，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用,。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,，它們用于激光器和其他應用光學儀器,。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識,。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,，BBO,，KDP，DKDP,，KTP,，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備,。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備,。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7,，S-LAH64和UVFS制成,。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜,。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi),，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作,，可在科學，工業(yè),，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,，軍事和航空航天市場,。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS,，Infrasil,，Suprasil，CaF2以及DKDP,，KDP,，LBO，BBO,，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,，球面,，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO,，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證,。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件,。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付,。